[发明专利]一种利用磁场提升多腔室结构灭弧效率的方法有效
| 申请号： | 202110210186.3 | 申请日： | 2021-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN113054534B | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | 浦仕遵;李宏梅;彭庆军;刘平林 | 申请（专利权）人： | 云南电网有限责任公司德宏供电局;云南电网有限责任公司电力科学研究院 |
| 主分类号： | H01T1/04 | 分类号： | H01T1/04 |
| 代理公司： | 昆明正原专利商标代理有限公司 53100 | 代理人： | 金耀生 |
| 地址： | 678499 云南省德*** | 国省代码： | 云南;53 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 利用 磁场 提升 多腔室 结构 效率 方法 | ||
1.一种利用磁场提升多腔室结构灭弧效率的方法，其特征在于：所述利用磁场提升多腔室结构灭弧效率的方法通过在淬弧结构内设置磁场，在淬弧结构的电极之间产生电弧时，电弧等离子通过气动压力向淬弧结构的缩口方向移动，在移动过程中，通过磁场作用，使电弧等离子叠加一个沿缩口方向加速移动的洛伦兹力；所述磁场为非恒定磁场，在磁场区域均匀分布，其大小随时间变化，呈现随时间先增大再减小的规律，具体选用函数对应的磁场，其中Bm=0.1~5T对应磁场的峰值大小，A、B、C取为常数，t为时间，单位取为μs。
2.根据权利要求1所述的利用磁场提升多腔室结构灭弧效率的方法，其特征在于：所述磁场的方向具体设置如下：若将淬弧结构内喷口朝向的中轴线和高低压球球电极连线分别定义为向量，则磁场的方向与向量一致。
3.根据权利要求1所述的利用磁场提升多腔室结构灭弧效率的方法，其特征在于：所述磁场区域涵盖淬弧结构的放电段，其中放电段涵盖放电电极及电极间电弧的气隙空间。
4.根据权利要求1所述的利用磁场提升多腔室结构灭弧效率的方法，其特征在于：所述灭弧效率是选取时间T1内电弧等离子的平均速度Vav来表征的，通过公式Vav=S/T1能够得出电弧等离子的平均速度，其中T1的选取针对不同电流大小情况有T1=100~800μs，S为0~T1时间段内求取指定函数积分即速度曲线包络线的面积。
5.根据权利要求1所述的利用磁场提升多腔室结构灭弧效率的方法，其特征在于：该利用磁场提升多腔室结构灭弧效率的方法能够用于制作多腔室结构的防雷装置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于云南电网有限责任公司德宏供电局;云南电网有限责任公司电力科学研究院，未经云南电网有限责任公司德宏供电局;云南电网有限责任公司电力科学研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110210186.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种可实现表面旋转的调整架
- 下一篇：一种螺旋串联的紧凑型多腔室灭弧结构
