[发明专利]一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法有效
申请号: | 202110215869.8 | 申请日: | 2021-02-26 |
公开(公告)号: | CN113061285B | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 刘志远;李光林;谢瑞杰;赵阳;于玫;李向新 | 申请(专利权)人: | 中国科学院深圳先进技术研究院 |
主分类号: | C08J9/36 | 分类号: | C08J9/36;A61B5/268;A61B5/296;C08L53/02;C08L23/08 |
代理公司: | 北京市诚辉律师事务所 11430 | 代理人: | 范盈;李玉娜 |
地址: | 518055 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 超薄 多孔 拉伸 薄膜 电极 制备 方法 | ||
1.一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一、将高分子材料溶于有机溶剂中,得到均匀的高分子溶液,所述高分子材料选自苯乙烯丁二烯嵌段共聚物、氢化苯乙烯丁二烯嵌段共聚物、乙烯-醋酸乙烯共聚物中的一种或几种的混合物,所述有机溶剂选自二硫化碳、氯仿、甲苯、二氯甲烷、二氯乙烷、苯、四氢呋喃、二甲苯、氟利昂中的一种或几种的混合物;
步骤二、将高分子溶液滴加在表面张力大于高分子溶液,且不溶解高分子材料的液体表面上铺展形成超薄液膜,在有机溶剂的挥发过程中自发形成多孔的高分子薄膜;有机溶剂的挥发速率为0.4mg/cm2*min-5mg/cm2*min之间进行调控,所得薄膜孔径可在无孔至厘米级孔之间进行调控;
步骤三、在多孔的高分子薄膜上制备导电层得到超薄多孔可拉伸薄膜电极。
2.根据权利要求1所述的一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法,其特征在于,步骤一中,所述高分子溶液浓度为1wt%至15wt%。
3.根据权利要求1所述的一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法,其特征在于,步骤一中,所述高分子溶液浓度为7.5wt%。
4.根据权利要求1所述的一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法,其特征在于,步骤二中,所述表面张力大于高分子溶液,且不溶解高分子材料的液体为水或者盐溶液中的一种或两种。
5.根据权利要求4所述的一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法,其特征在于所述盐溶液为NaCl溶液、KCl溶液或Na2SO4溶液。
6.根据权利要求1所述的一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法,其特征在于,步骤二中,所述高分子溶液的滴加量为10μL-100μL。
7.根据权利要求1所述的一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法,其特征在于,步骤二中,所述高分子溶液的滴加量为15-20μL。
8.根据权利要求1所述的一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法,其特征在于,所述步骤二中,高分子薄膜的厚度为20nm-1000nm,其中可自支撑的高分子薄膜的最薄厚度为100nm。
9.根据权利要求1所述的一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法,其特征在于,步骤三中,所述制备导电层的方法包括磁控溅射、热蒸镀、电子束沉积、喷涂法、刮涂法、蘸涂法。
10.根据权利要求9所述的一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法,其特征在于所述磁控溅射、热蒸镀、电子束沉积的金属材料包括金、银、铜、铂、钛、铱金中的一种或几种的组合。
11.根据权利要求9所述的一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法,其特征在于磁控溅射的条件为:氩气分压:3.8Pa,功率150W;溅射的厚度为7nm-20nm;热蒸镀、电子束沉积条件为:气压小于3*10-3Pa,蒸镀速率为0.1-20nm/s。
12.根据权利要求11所述的一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法,其特征在于溅射的厚度为15-18nm。
13.根据权利要求11所述的一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法,其特征在于蒸镀速率为0.3-0.7nm/s。
14.根据权利要求9所述的一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法,其特征在于喷涂法、刮涂法、蘸涂法制备导电层采用导电纳米颗粒水分散液为导电材料。
15.根据权利要求14所述的一种超薄多孔可拉伸薄膜电极的制备方法,其特征在于采用金属纳米材料、碳纳米材料、导电高分子的水分散液为导电材料。
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