[发明专利]一种水冷磁体长尾杜瓦安装装置及其使用方法

说明书

本发明公开了一种水冷磁体长尾杜瓦安装装置，包括磁体、杜瓦和杜瓦长尾，还包括磁体平台、可调节支架、平移调节组件、倾角调节组件和光学反馈装置；磁体平台内部设有安装槽；可调节支架设置在安装槽内；平移调节组件设置有多组，多组平移调节组件用于调节杜瓦支撑装置的水平位置；倾角调节组件一端与杜瓦支撑装置固定，另一端与支撑底架活动连接；光学反馈装置包括摄像头和光源装置；本发明通过在磁体和杜瓦之间设置有可调节支架、平移调节组件和倾角调节组件，利用可调节支架支撑杜瓦，并对可调节支架增加了平移和倾斜角度调节功能，再采用光学反馈装置进行反馈，可以确保杜瓦安装过程中杜瓦与水冷磁体平行度，避免碰撞接触。

技术领域

本发明涉及水冷磁体设计技术领域，具体为一种水冷磁体长尾杜瓦安装装置及使用方法。

背景技术

水冷磁体是目前产生20特斯拉以上强磁场的主要方法，水冷磁体提供的强磁场孔径通常为50mm的室温孔，磁体平面距离磁中心一般大于600mm。科学实验中，水冷磁体需要搭配长尾低温杜瓦使用。为了获得更大的低温实验样品空间，杜瓦的长尾外径接近磁体的室温孔径(约2mm)，杜瓦安装过程中，即单边距离只有1mm左右，对杜瓦长尾的准直度和平行度要求很高。

专利CN104465283A公开了一种超导强磁场磁控溅射阴极的低温冷却系统，由两个液氮存储杜瓦、增压阀、放气阀、第一输液管道和第一输液杆、第二输液管道和第二输液杆、真空腔体、磁体杜瓦上盖，以及磁体杜瓦底座组成；超导磁体、外磁轭、内磁轭和底磁轭安装在由磁体杜瓦上盖和磁体杜瓦底座所包围的密闭空间中，磁体杜瓦上盖与阴极靶材固定在一起，之间留有部分真空间隙。但是该技术的超导磁体与杜瓦的安装方式经常导致杜瓦长尾与磁体接触，引起短路，增加实验测量误差。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于如何解决现有的水冷磁体与长尾杜瓦的安装方式经常导致长尾杜瓦的长尾与水冷磁体接触，引起短路，增加实验测量误差的问题。

本发明通过以下技术手段实现解决上述技术问题的：

一种水冷磁体长尾杜瓦安装装置，包括磁体、杜瓦和杜瓦长尾，还包括磁体平台、可调节支架、平移调节组件、倾角调节组件和光学反馈装置；所述磁体平台内部开设有上下贯通的安装槽；

所述可调节支架设置在所述安装槽内；所述可调节支架包括支撑底架和杜瓦支撑装置，所述支撑底架固定在所述安装槽顶部，所述杜瓦支撑装置设置在所述支撑底架上；

所述平移调节组件设置有多组，多组所述平移调节组件呈环形等间距固定在所述支撑底架上，多组所述平移调节组件用于从不同方向调节所述杜瓦支撑装置的水平位置；

所述倾角调节组件一端与所述杜瓦支撑装置固定，所述倾角调节组件另一端与所述支撑底架活动连接；

所述光学反馈装置包括摄像头和光源装置；所述摄像头设置在所述安装槽底部；所述光源装置设置在所述支撑底架底部，所述光源装置为所述摄像头提供光源。

本发明通过在磁体和杜瓦之间设置有可调节支架、平移调节组件和倾角调节组件，利用可调节支架支撑杜瓦，并对可调节支架增加了平移和倾斜角度调节功能，再采用光学反馈装置进行反馈，可以确保杜瓦安装过程中杜瓦与磁体平行度，避免碰撞接触。

优选地，所述杜瓦支撑装置包括平移板、杜瓦支撑板和连接杆；所述平移板设置在所述支撑底架上，所述支撑底架内部中空；所述杜瓦支撑板设置在所述安装槽内；所述连接杆上端与所述平移板固定连接，所述连接杆下端与所述杜瓦支撑板固定连接。

优选地，所述平移板为内部中空的矩形板结构。

优选地，所述杜瓦支撑板中部开设有杜瓦长尾安装孔，所述光源装置固定在所述杜瓦长尾安装孔底部。

优选地，所述连接杆设置有若干个。