[发明专利]光造型装置用光学系统在审
申请号: | 202110219138.0 | 申请日: | 2021-02-26 |
公开(公告)号: | CN113534485A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 大岛英司;铃木久则 | 申请(专利权)人: | 康达智株式会社 |
主分类号: | G02B27/42 | 分类号: | G02B27/42;B29C64/264;B29C64/268;B33Y30/00 |
代理公司: | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人: | 魏彦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 造型 装置 用光 系统 | ||
1.一种光造型装置用光学系统,其特征在于,具有:
光源,
光扫描部,使从所述光源出射的光反射并朝向造型面扫描,以及
聚光透镜,配置在所述光扫描部与所述造型面之间,将由所述光扫描部反射的光聚光;
在将所述聚光透镜的焦点距离设为f,将所述聚光透镜的所述造型面侧的面的最大有效直径上的法线角设为A时,满足以下公式:
f≤25mm,
0.3<cos(A)。
2.根据权利要求1所述的光造型装置用光学系统,其特征在于,
所述聚光透镜为双凸透镜,
在将所述聚光透镜的光扫描部侧的面的曲率半径设为R1,将所述聚光透镜的造型面侧的面的曲率半径设为R2时,满足以下公式:
1.0≤|R1/R2|。
3.根据权利要求1或2所述的光造型装置用光学系统,其特征在于,
在所述光源与所述光扫描部之间还具有光束整形单元,
在将从所述光源入射的光线的横截面中的短轴的长度设为Da,将长轴的长度设为Db时,所述光束整形单元在出射侧以满足以下公式的方式使所述短轴方向的光扩散,
0.9<Da/Db<1.2。
4.根据权利要求3所述的光造型装置用光学系统,其特征在于,
所述光束整形单元在从所述光源出射的光线的入射侧具有沿着所述长轴形成的凹面,在出射侧具有沿着所述长轴形成的凸面。
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