[发明专利]吸附装置、成膜装置、吸附方法、成膜方法及电子器件的制造方法

说明书

本发明涉及吸附装置、成膜装置、吸附方法、成膜方法及电子器件的制造方法。使静电吸盘良好地吸附被吸附体。本发明的吸附装置的特征在于，具有：支撑单元，所述支撑单元支撑被吸附体的第一主面的周缘部，所述被吸附体具有所述第一主面和该第一主面的相反侧的第二主面；吸附部件，所述吸附部件从所述被吸附体的所述第二主面侧吸附所述被吸附体；以及多个推压构件，所述多个推压构件用于从所述被吸附体的所述第二主面侧推压所述被吸附体，所述多个推压构件分别配置在与所述被吸附体的所述第二主面具有的多个角部中的至少两个角部对应的位置。

技术领域

本发明涉及吸附装置、成膜装置、吸附方法、成膜方法及电子器件的制造方法。

背景技术

在有机EL显示装置(有机EL显示器)的制造中，在形成构成有机EL显示装置的有机发光元件(有机EL元件：OLED)时，通过将从成膜装置的蒸发源蒸发的蒸镀材料经由形成有像素图案的掩模蒸镀于基板，从而形成有机物层或金属层。

在向上蒸镀方式(向上沉积)的成膜装置中，蒸发源设置在成膜装置的真空容器的下部，基板配置在真空容器的上部，并向基板的下表面进行蒸镀。在这种向上蒸镀方式的成膜装置的真空容器内，由于基板仅其下表面的周边部由基板支架保持，所以基板因其自重而挠曲，这成为蒸镀精度下降的一个因素。另外，在向上蒸镀方式以外的方式的成膜装置中，也有可能因基板的自重而产生挠曲。

作为用于降低由基板的自重导致的挠曲的方法，研究了使用静电吸盘的技术。即，通过用静电吸盘对基板的整个上表面进行吸附，从而能够降低基板的挠曲。

发明内容

发明要解决的课题

但是，即使从上方将向下方挠曲的基板吸附于静电吸盘，由于吸附会花费相对较长的时间，所以工序时间(Tact Time)也增加，成为使生产性下降的因素。另外，即使花费时间进行吸附，也会残留挠曲，成为使蒸镀精度下降的因素。

本发明的目的在于使静电吸盘良好地吸附被吸附体。

用于解决课题的手段

本发明的第一方案的吸附装置的特征在于，具有：支撑单元，所述支撑单元支撑被吸附体的第一主面的周缘部，所述被吸附体具有所述第一主面和该第一主面的相反侧的第二主面；吸附部件，所述吸附部件从所述被吸附体的所述第二主面侧吸附所述被吸附体；以及多个推压构件，所述多个推压构件用于从所述被吸附体的所述第二主面侧推压所述被吸附体，所述多个推压构件分别配置在与所述被吸附体的所述第二主面具有的多个角部中的至少两个角部对应的位置。

本发明的第二方案的吸附装置的特征在于，具有：支撑单元，所述支撑单元支撑被吸附体的第一主面的周缘部，所述被吸附体具有所述第一主面和该第一主面的相反侧的第二主面；吸附部件，所述吸附部件从所述被吸附体的所述第二主面侧吸附所述被吸附体；推压构件，所述推压构件用于从所述被吸附体的所述第二主面侧推压所述被吸附体；容器，所述容器在内部配置有所述支撑单元、所述吸附部件及所述推压构件；支撑单元移动机构，所述支撑单元移动机构使所述支撑单元在与所述第一主面或所述第二主面垂直的方向上移动；以及控制部，所述控制部控制所述支撑单元移动机构，所述推压构件相对于所述容器固定并配置，所述控制部以如下方式控制所述支撑单元移动机构：通过利用所述支撑单元移动机构向接近所述推压构件的方向移动所述支撑单元，从而所述被吸附体由所述推压构件推压。

本发明的第三方案的成膜装置的特征在于，具有：基板支撑单元，所述基板支撑单元支撑基板的第一主面的周缘部，所述基板具有所述第一主面和该第一主面的相反侧的第二主面；基板吸附部件，所述基板吸附部件从所述基板的所述第二主面侧吸附所述基板；多个推压构件，所述多个推压构件用于从所述基板的所述第二主面侧推压所述基板；以及容器，所述容器在内部配置有所述基板支撑单元、所述基板吸附部件及所述多个推压构件；所述多个推压构件分别配置在与所述基板的所述第二主面具有的多个角部中的至少两个角部对应的位置。