[发明专利]显影处理装置和显影处理方法

说明书

提供显影处理装置和显影处理方法：短尺寸的第1显影液供给部和长度为俯视时基板直径以上的长尺寸的第2显影液供给部能共用接收从基板飞散的显影液的液接收部。显影处理装置对基板上的抗蚀膜进行显影，具有：基板保持部，将基板保持为水平；旋转机构，使基板保持部绕铅垂轴旋转；第1和第2显影液供给部，向基板供给显影液；以及液接收部，接收来自基板的显影液，第1显影液供给部长度为俯视时小于基板直径，第2显影液供给部长度为俯视时基板直径以上，液接收部的环状的第1和第2环状壁具有俯视时直径大于基板直径的圆状的开口，第2环状壁设于第1环状壁上方，第1和第2环状壁能彼此独立升降，第1环状壁与第2环状壁在铅垂方向上距离可变。

技术领域

本公开涉及显影处理装置和显影处理方法。

背景技术

专利文献1公开了一种显影装置，其具有：基板保持部，其将基板保持为水平，该基板在其表面形成有已曝光的抗蚀膜；以及显影液供给部，其向基板的表面供给显影液。在专利文献1所公开的显影装置中，作为显影液供给部而具有显影液供给喷嘴，在该显影液供给喷嘴设有将显影液向下方供给的喷出口，显影液供给喷嘴的喷出口沿着喷嘴的长度方向设置，并形成为具有与晶圆W的直径大致相同的长度的狭缝状。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-81964号公报

发明内容

发明要解决的问题

本公开的技术提供如下的显影处理装置和显影处理方法：短尺寸的第1显影液供给部和形成为俯视时大于等于基板的直径的长度的长尺寸的第2显影液供给部能够共用用于接收从基板飞散的显影液的液接收部。

用于解决问题的方案

本公开的一技术方案是一种显影处理装置，其用于对基板上的抗蚀膜进行显影，该显影处理装置具有：基板保持部，其将基板保持为水平；旋转机构，其使所述基板保持部绕铅垂轴线旋转；第1显影液供给部和第2显影液供给部，它们向保持于所述基板保持部的基板供给显影液；以及液接收部，其接收来自保持于所述基板保持部的基板的显影液，所述第1显影液供给部形成为俯视时小于基板的直径的长度，所述第2显影液供给部形成为俯视时大于等于基板的直径的长度，所述液接收部具有第1环状壁和第2环状壁，该第1环状壁和第2环状壁形成为具有俯视时直径大于基板的直径的圆状的开口的环状，所述第2环状壁设于所述第1环状壁的上方，所述第1环状壁和所述第2环状壁构成为能够彼此独立地升降，所述第1环状壁与所述第2环状壁的铅垂方向上的距离可变。

发明的效果

根据本公开，能够提供如下的显影处理装置和显影处理方法：短尺寸的第1显影液供给部和形成为俯视时大于等于基板的直径的长度的长尺寸的第2显影液供给部能够共用用于接收从基板飞散的显影液的液接收部。

附图说明

图1是以往的显影处理装置的说明图。

图2是以往的显影处理装置的说明图。

图3是用于说明本公开的技术的课题的图。

图4是概略地示出本实施方式的显影处理装置的结构的概略的纵剖视图。

图5是概略地示出本实施方式的显影处理装置的结构的概略的横剖视图。

图6是表示利用来自第1显影液供给部的显影液显影的情况下的晶圆处理的各工序中的显影处理装置的内部状态的图。

图7是表示利用来自第2显影液供给部的显影液显影的情况下的晶圆处理的各工序中的显影处理装置的内部状态的图。