[发明专利]一种电磁屏蔽膜有效

专利信息
申请号: 202110220451.6 申请日: 2021-02-26
公开(公告)号: CN113038812B 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 喻琼;喻南 申请(专利权)人: 东莞市金恒晟新材料科技有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;H05K1/02;C09J7/29
代理公司: 广州恒华智信知识产权代理事务所(普通合伙) 44299 代理人: 姜宗华
地址: 523590 广东省东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电磁 屏蔽
【说明书】:

发明公开了一种电磁屏蔽膜,涉及电磁屏蔽膜领域,为解决现有技术中的现有的电磁屏蔽膜在使用中无法具备足够的强度,若电路板产生挤压时,电磁屏蔽膜易产生损坏的问题。所述第一电磁屏蔽膜和第二电磁屏蔽膜的一侧均设置有屏蔽膜缺口,且所述第一电磁屏蔽膜和第二电磁屏蔽膜的另一侧均设置有前限位连接块,所述前限位连接块与所述第一电磁屏蔽膜和第二电磁屏蔽膜的另一侧之间安装有连接块连接臂,且所述前限位连接块设置有若干个,若干个所述前限位连接块之间均设置有前限位口。

技术领域

本发明涉及电磁屏蔽膜技术领域,具体为一种电磁屏蔽膜。

背景技术

电磁兼容性缩写EMC,就是指某电子设备既不干扰其它设备,同时也不受其它设备的影响。电磁兼容性和我们所熟悉的安全性一样,是产品质量最重要的指标之一。安全性涉及人身和财产,而电磁兼容性则涉及人身和环境保护。电子元件对外界的干扰,称为EMI;电磁波会与电子元件作用,产生被干扰现象,称为EMS。例如,TV荧光屏上常见的“雪花”,便表示接受到的讯号被干扰。电磁屏蔽在空间某个区域内,用以减弱由某些源引起的场强的措施。在绝大多数情况下,屏蔽体可由铜、铝、钢等金属制成,但对于恒定和极低频磁场,也可采用铁氧体等材料作为屏蔽体。在一个系统内或不同系统间常会产生电磁噪声或干扰而引起系统性能恶化,因此要求,将电力线或磁力线限制在一定区域内;使某一区域不受外来电力线和磁力线的影响。

随着柔性线路板布线线路的越来越密集,对电磁屏蔽膜的要求越来越高,屏蔽效能大于60db的电磁屏蔽膜越来越受到市场的青睐。屏蔽效能与导通有着直接的关系,导通数值越小,屏蔽效能越高。但是现有的电磁屏蔽膜在使用中无法具备足够的强度,若电路板产生挤压时,电磁屏蔽膜易产生损坏;因此市场急需研制一种电磁屏蔽膜来帮助人们解决现有的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种电磁屏蔽膜,以解决上述背景技术中提出的现有的电磁屏蔽膜在使用中无法具备足够的强度,若电路板产生挤压时,电磁屏蔽膜易产生损坏的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种电磁屏蔽膜,包括第一电磁屏蔽膜和第二电磁屏蔽膜,所述电磁屏蔽膜由多个第一电磁屏蔽膜和多个第二电磁屏蔽膜构成,所述第一电磁屏蔽膜与第二电磁屏蔽膜卡槽固定连接,所述第一电磁屏蔽膜和第二电磁屏蔽膜的一侧均设置有屏蔽膜缺口,且所述第一电磁屏蔽膜和第二电磁屏蔽膜的另一侧均设置有前限位连接块,所述前限位连接块与所述第一电磁屏蔽膜和第二电磁屏蔽膜的另一侧之间安装有连接块连接臂,且所述前限位连接块设置有若干个,若干个所述前限位连接块之间均设置有前限位口,所述第一电磁屏蔽膜和第二电磁屏蔽膜的内部设置有开口,所述开口设置有若干个,若干个所述开口的两侧均设置有易撕刻度线,所述第一电磁屏蔽膜和第二电磁屏蔽膜的外部设置有伸缩条带,所述伸缩条带设置有若干个,且所述开口的内壁设置有加强框体,且所述加强框体的内部设置有电磁屏蔽膜主体。

优选的,所述屏蔽膜缺口的位置与前限位连接块和连接块连接臂的位置相对应,所述前限位连接块和连接块连接臂均与第一电磁屏蔽膜和第二电磁屏蔽膜设置为一体结构。

优选的,所述第二电磁屏蔽膜的前限位连接块和连接块连接臂嵌入第一电磁屏蔽膜的屏蔽膜缺口内部与第一电磁屏蔽膜卡合,且所述第二电磁屏蔽膜的前限位口与第一电磁屏蔽膜卡合。

优选的,所述伸缩条带的两侧均设置有限位板,所述限位板卡入第一电磁屏蔽膜的内部与第一电磁屏蔽膜固定连接,且所述限位板的一侧设置有多层卡板和多层卡槽,所述多层卡板和多层卡槽与限位板设置为一体结构,所述多层卡板和多层卡槽的内部安装有连接柱,所述连接柱的两端贯穿多层卡板延伸至加强框体内部与加强框体固定连接。

优选的,所述第一电磁屏蔽膜易撕刻度线的位置与第二电磁屏蔽膜易撕刻度线的位置相同,且所述易撕刻度线与第一电磁屏蔽膜和第二电磁屏蔽膜设置为一体结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞市金恒晟新材料科技有限公司,未经东莞市金恒晟新材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110220451.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top