[发明专利]柔性基底、显示面板及其制作方法在审
申请号: | 202110221180.6 | 申请日: | 2021-02-26 |
公开(公告)号: | CN113013363A | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 郭远征;陈立强;夏维;李杰;高涛;周伟峰 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人: | 陈蕾 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 柔性 基底 显示 面板 及其 制作方法 | ||
1.一种柔性基底,其特征在于,包括:依次堆叠设置的第一有机层、无机阻隔层、金属层以及第二有机层,所述金属层用于提高所述无机阻隔层与所述第二有机层之间的结合力。
2.根据权利要求1所述的柔性基底,其特征在于,所述金属层的材料包含铝、银、镍、镁或钼中的至少一种。
3.根据权利要求2所述的柔性基底,其特征在于,所述金属层的厚度范围为:
4.根据权利要求1所述的柔性基底,其特征在于,所述金属层为金属图案层,所述金属图案层包括多个子金属块,相邻所述子金属块之间为镂空区域。
5.一种显示面板,其特征在于,包括权利要求1至4任一项所述的柔性基底。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板包括显示区,所述金属层为金属图案层,所述金属图案层包括多个子金属块,相邻所述子金属块之间为镂空区域,所述多个子金属块与所述镂空区域对应于所述显示区。
7.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板包括显示区,所述金属层为金属图案层,所述金属图案层包括多个连接条,所述多个连接条限定多个镂空区域,所述多个连接条与所述多个镂空区域对应于所述显示区。
8.根据权利要求6或7所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板包括图像采集区,所述图像采集区位于所述显示区;所述图像采集区对应于所述镂空区域。
9.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
在权利要求1至4任一项所述的柔性基底上制作像素结构。
10.根据权利要求9所述的显示面板制作方法,其特征在于,所述制作像素结构包括:
在所述第二有机层远离所述第一有机层的一侧形成第一金属材料层,图形化所述第一金属材料层形成阳极;
在所述阳极以及所述第二有机层远离所述第一有机层的一侧形成像素定义层,图形化所述像素定义层形成暴露所述阳极的开口;
在所述开口内蒸镀有机发光材料层;以及
在所述有机发光材料层与所述像素定义层远离所述第一有机层的一侧蒸镀阴极材料层;
所述柔性基底的所述金属层为金属图案层;所述金属图案层用作所述图形化第一金属材料层使用的掩模版与所述柔性基底对位时的对位标记,和/或所述金属图案层用作所述图形化像素定义层使用的掩模版与所述柔性基底对位时的对位标记,和/或所述金属图案层用作所述蒸镀有机发光材料层使用的掩模版与所述柔性基底对位时的对位标记,和/或所述金属图案层用作所述蒸镀阴极材料层使用的掩模版与所述柔性基底对位时的对位标记;或
所述第二有机层在远离所述第一有机层的一侧具有对位标记,所述金属层具有镂空区域,所述镂空区域对应于所述对位标记,以在所述图形化第一金属材料层使用的掩模版与所述柔性基底对位时露出所述对位标记,和/或在所述图形化像素定义层使用的掩模版与所述柔性基底对位时露出所述对位标记,和/或在所述蒸镀有机发光材料层使用的掩模版与所述柔性基底对位时露出所述对位标记,和/或在所述蒸镀阴极材料层使用的掩模版与所述柔性基底对位时露出所述对位标记。
11.根据权利要求9或10所述的显示面板制作方法,其特征在于,所述制作像素结构前,先在所述第二有机层远离所述第一有机层的一侧制作像素驱动电路,所述像素驱动电路包括晶体管和/或电容;所述晶体管包括:栅极、有源层、源极与漏极;所述电容包括:第一极板与第二极板;
所述柔性基底的所述金属层为金属图案层;所述金属图案层用作制作所述栅极使用的掩模版与所述柔性基底对位时的对位标记,和/或所述金属图案层用作制作所述有源层使用的掩模版与所述柔性基底对位时的对位标记,和/或所述金属图案层用作制作所述源极与漏极使用的掩模版与所述柔性基底对位时的对位标记,和/或所述金属图案层用作制作所述第一极板使用的掩模版与所述柔性基底对位时的对位标记,和/或所述金属图案层用作制作所述第二极板与所述柔性基底对位时的对位标记;或
所述第二有机层在远离所述第一有机层的一侧具有对位标记,所述金属层具有镂空区域,所述镂空区域对应于所述对位标记,以在制作所述栅极使用的掩模版与所述柔性基底对位时露出所述对位标记,和/或在制作所述有源层使用的掩模版与所述柔性基底对位时露出所述对位标记,和/或在制作所述源极与漏极使用的掩模版与所述柔性基底对位时露出所述对位标记,和/或在制作所述第一极板使用的掩模版与所述柔性基底对位时露出所述对位标记,和/或在制作所述第二极板使用的掩模版与所述柔性基底对位时露出所述对位标记。
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