[发明专利]用于多晶硅活性炭吸附塔的均流设备在审

专利信息
申请号: 202110222327.3 申请日: 2021-02-28
公开(公告)号: CN113019064A 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 倪震宇;王玲;李伯奎;李春朋;许兆美 申请(专利权)人: 淮阴工学院
主分类号: B01D53/04 分类号: B01D53/04
代理公司: 淮安市科文知识产权事务所 32223 代理人: 李锋
地址: 223005 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 用于 多晶 活性炭 吸附 设备
【说明书】:

用于多晶硅活性炭吸附塔的均流设备,包括,反应塔;格栅,所述格栅固定连接于反应塔内,所述格栅上部设置有活性炭层、下部设有布气装置;气体分布板,所述气体分布板固定连接于反应塔内,设置于格栅与布气装置之间,所述气体分布板上设有多个竖直方向设置的气孔,所述气孔内安装有喷头,所述喷头包括管体、顶帽以及安装于顶帽内的活塞,所述管体的一端固定连接于气孔内,另一端与顶帽固定连接,所述顶帽内竖直方向设有哑铃状气腔,所述顶帽上表面设有连通哑铃状气腔上部的散气孔,所述顶帽内固定连接有滑杆,所述活塞滑动连接于滑杆,所述活塞大小与哑铃状气腔上颈部相匹配、呈倒锥台状,所述哑铃状气腔下部连通管体通腔。

技术领域

发明属于化工领域,特别是涉及用于多晶硅活性炭吸附塔的均流设备。

背景技术

多晶硅活性炭吸附塔是“改良西门子法”中“干法回收还原尾气”工艺的关键设备,其主要作用是对混合气体中的氢气进行提纯。均流设备是决定多晶硅活性炭吸附塔吸附性能的最关键结构,其通过塔内气体流场分布来影响吸附效率:吸附截面流场分布越均匀,吸附效率越高。现有的多晶硅活性炭吸附塔中,均流设备多为单一进气管,在气体均布方面研究不多.

目前的多晶硅活性炭吸附塔,需要改进均流设备用以改善吸附塔内流场分布,进而提高吸附效率。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供用于多晶硅活性炭吸附塔的均流设备,通过设置“V”形气体分布板。

本发明通过以下技术方案实现:

用于多晶硅活性炭吸附塔的均流设备,包括,

反应塔;

格栅,所述格栅固定连接于反应塔内,所述格栅上部设置有活性炭层、下部设有布气装置;

气体分布板,所述气体分布板固定连接于反应塔内,设置于格栅与布气装置之间,所述气体分布板上设有多个竖直方向设置的气孔,所述气孔内安装有喷头,所述喷头包括管体、顶帽以及安装于顶帽内的活塞,所述管体的一端固定连接于气孔内,另一端与顶帽固定连接,所述顶帽内竖直方向设有哑铃状气腔,所述顶帽上表面设有连通哑铃状气腔上部的散气孔,所述顶帽内固定连接有滑杆,所述活塞滑动连接于滑杆,所述活塞大小与哑铃状气腔上颈部相匹配、呈倒锥台状,所述哑铃状气腔下部连通管体通腔。。

进一步地,所述滑杆呈倒“T”形,所述活塞中心设有与滑杆直径匹配的滑孔,所述滑孔直径小于滑杆端部直径,所述滑杆插接于滑孔内,所述顶帽、哑铃状气腔以及活塞同轴心设置。

进一步地,所述滑杆上套接有弹簧,所述弹簧两端分别抵住顶帽内壁与活塞。

进一步地,所述气孔圆心轴线分布于以气体分布板的中心线为圆心设置的同心圆的周线上。

进一步地,所述气孔为阶梯孔,所述管体中部外沿固定连接有直径大于阶梯孔的的小孔直径、小于阶梯孔的大孔直径的限位垫圈,所述限位垫圈通过设有外螺纹的螺帽与阶梯孔内的螺纹连接后压紧固定连接于气孔内。

进一步地,所述气体分布板为为V型结构,所述V型结构的夹角α为110°~170°。

进一步地,所述布气装置包括进气管、布气管,所述进气管由反应塔底部中心插入反应塔内,顶部密封设置,所述布气管设有多根、中心轴线位于同一水平面上,固定连接于进气管,所述布管两侧开设有多个安装槽,所述安装槽内安装有导向管。

进一步地,所述安装槽水平中心面位于同一平面上,。

进一步地,所述导向管内安装有导向头,所述导向头上设有多个分流孔,所述分流孔轴线于导向管轴线平行设置。

进一步地,所述分流孔均匀分布于导向头上。

本发明的有益效果是;

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