[发明专利]超薄玻璃层及其制备方法、盖板

权利要求书

1.一种超薄玻璃层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

对超薄玻璃层的至少一侧表面喷淋蒙砂液，形成表面凹凸结构；

采用氢氟酸清洗所述超薄玻璃层的表面；

对所述超薄玻璃层的表面进行化学抛光处理。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述蒙砂液的组成材料包括氟化物、有机物和不溶性无机物，所述蒙砂液的PH值在2～4的范围内。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在对所述超薄玻璃层的表面进行化学抛光处理的步骤中包括：制备抛光液，将所述超薄玻璃层沉浸于所述抛光液中进行浸泡。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述抛光液的组成材料包括氢氟酸、无机酸和有机物。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在对所述超薄玻璃层喷淋蒙砂液的步骤中包括：在所述超薄玻璃层的非蒙砂蚀刻面上涂覆一层耐酸保护层，所述耐酸保护层的材料包括涤纶树脂或者丙烯酸。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在对所述超薄玻璃层喷淋所述蒙砂液的步骤之前或者对所述超薄玻璃层进行化学抛光处理的步骤之后还包括：对所述超薄玻璃层进行边缘切割、加工和化学强化处理。

7.一种超薄玻璃层，其特征在于，所述超薄玻璃层采用权利要求1～6任一项所述的制备方法制得。

8.根据权利要求1所述的超薄玻璃层，其特征在于，所述超薄玻璃层的材料包括铝硅玻璃，所述超薄玻璃层的厚度为30um～50um。

9.根据权利要求1所述的超薄玻璃层，其特征在于，所述超薄玻璃层的透光率大于85％，雾度小于6％，粗糙度小于0.5um。

10.一种盖板，其特征在于，包括：表面防护层、第一光学胶层、第二光学胶层和如权利要求7～9任一项所述的超薄玻璃层；所述超薄玻璃层设置于所述第一光学胶层的一侧，所述第二光学胶层设置于所述超薄玻璃层远离所述第一光学胶层的一侧，所述表面防护层设置于所述第二光学胶层远离所述超薄玻璃层的一侧。