[发明专利]和分析检测仪器配套的重金属干扰消除装置

说明书

本发明公开了一种和分析检测仪器配套的重金属干扰消除装置，溶液进液管和碱液进液管分别与反应容器连接，分别用于向反应容器内注入待测溶液和碱性溶液；pH检测装置与反应容器连接，用于检测反应容器内溶液的pH值；搅拌装置与反应容器连接，用于搅拌反应容器内的液体；反应容器上设置有出液口，用于采集沉淀后的待测溶液；废液出口设置于反应容器底部，用于排出反应后的废液；控制单元与溶液进液管、碱液进液管、pH检测装置、废液出口和搅拌装置连接，用于控制装置运行。该装置以pH值来控制消除重金属离子干扰的反应，用静置沉淀取上清液来检测就可以消除溶液中重金属离子干扰，提高了后续分析检测的准确性，原理简单、成本低且效果好。

技术领域

本发明涉及废水检测技术领域，特别涉及一种和分析检测仪器配套的重金属干扰消除装置。

背景技术

电镀、电子、冶金等行业产生的废水含有大量的金属离子，如果偷排到环境中，会严重污染环境。以电镀行业为例：电镀废水排量大、毒性高，相关研究统计，全球每年产生超过1000万立方米的电镀废水，在中国东北三省电镀废水则占到了工业废水的22％，是当地第二大水污染来源。电镀废水的偷排漏排给当地水环境带来了很大危害。

为了有效地监管这类废水的偷排漏排，需要准确获得这些废水的污染特征，如化学需氧量、荧光光谱、吸收光谱等。但电镀、电子、冶金等行业的废水中含有较高浓度的重金属离子，重金属会干扰这些污染特征检测的准确性，因此亟需一种有效的重金属干扰消除设备作为化学需氧量、荧光光谱、吸收光谱等检测的预处理装备，来提高检测准确性。目前有消除氯离子干扰的方法，尚未消除重金属干扰的方法，更没有装置。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决重金属干扰化学需氧量、荧光光谱、吸收光谱等检测的问题。

为此，本发明的目的在于提出一种和分析检测仪器配套的重金属干扰消除装置，该装置解决了化学需氧量、荧光光谱、吸收光谱等分析仪器在检测重金属浓度较高的水样如电镀电子废水时受重金属离子干扰从而影响检测准确度的问题。

为达到上述目的，本发明实施例提出了一种和分析检测仪器配套的重金属干扰消除装置，包括：溶液进液管、碱液进液管、反应容器、出液口、pH检测装置、废液出口、搅拌装置和控制单元；

所述溶液进液管和所述碱液进液管分别与所述反应容器连接，所述溶液进液管用于向所述反应容器内注入待测溶液，所述碱液进液管用于向所述反应容器内注入碱性溶液；

所述pH检测装置与所述反应容器连接，用于检测及调控所述反应容器内溶液的pH值；

所述搅拌装置与所述反应容器连接，用于搅拌反应容器内的液体；

所述反应容器上设置有所述出液口，用于采集沉淀后的待测溶液；

所述废液出口设置于所述反应容器底部，用于排出反应后的废液；

所述控制单元通过控制电路与所述溶液进液管、所述碱液进液管、所述pH检测装置、所述废液出口和所述搅拌装置连接，用于控制装置运行。

进一步地，所述溶液进液管和所述碱液进液管分别通过挤压性电磁阀和计量泵与所述反应容器连接，用于控制进液量。

进一步地，所述控制单元分别与所述溶液进液管和所述碱液进液管的挤压性电磁阀和计量泵连接。

进一步地，所述pH检测装置包括pH控制器和pH探头，所述pH控制器与所述pH探头连接，所述pH探头插入所述反应容器内部，所述控制单元与所述pH控制器连接，所述pH控制器控制范围为6～11。

进一步地，在所述废液出口出设置隔膜泵。

进一步地，所述反应容器上设置有溢流口，用于防止所述反应容器内液位过高，所述溢流口位置高于所述出液口。