[发明专利]一种应用于电解铜箔制备的分散加料型溶铜罐

说明书

本发明公开了一种应用于电解铜箔制备的分散加料型溶铜罐，包括罐体，罐体的顶部安装有盖体，盖体表面中心处安装有进料仓，进料仓是由同心设置的外挡圈和内挡圈以及盖体围成，盖体表面位于外挡圈和内挡圈之间开有若干第一进料口。本发明将铜粉直接全部加入进料仓中，通过在溶铜罐的顶部设置分散进料组件，能够将进料仓中的铜粉在反应过程中分散分量的持续分批次自动加入，保证每次加入的铜粉在多向分散性搅拌机构的搅拌作用下能够快速反应在没有沉入罐体底部时已经反应完全，不会造成铜粉的堆积，并且通过进料限位调节件和底挡料组件之间的配合作用能够进行全自动加料，无需人工分料再加入。

技术领域

本发明属于电解铜箔制备领域，涉及一种应用于电解铜箔制备的分散加料型溶铜罐。

背景技术

在电解铜箔制备过程中需要将铜料加入酸液中制备成铜离子溶液，通常是将铜线圈直接加入溶铜罐中，造成其底部堆积不易分散均匀，进而使得溶铜罐底部大量的铜料堆积不能反应，造成原料的浪费，为了提高铜料与酸液的反应效率，现有技术中通常会将铜粉作为铜料在反应前直接全部加入溶铜罐中进行反应，虽然能够提高铜料与酸液的接触面积加快铜料的反应，但是直接将铜粉完全加入后铜粉也容易堆积在溶铜罐底部，进而影响铜料的完全反应。

发明内容

本发明的目的在于提供一种应用于电解铜箔制备的分散加料型溶铜罐，将铜粉直接全部加入进料仓中，通过在溶铜罐的顶部设置分散进料组件，能够将进料仓中的铜粉在反应过程中分散分量的持续分批次自动加入，保证每次加入的铜粉在多向分散性搅拌机构的搅拌作用下能够快速反应在没有沉入罐体底部时已经反应完全，不会造成铜粉的堆积，并且通过进料限位调节件和底挡料组件之间的配合作用能够进行全自动加料，无需人工分料再加入。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现：

一种应用于电解铜箔制备的分散加料型溶铜罐，包括罐体，罐体的顶部安装有盖体，盖体表面中心处安装有进料仓，进料仓是由同心设置的外挡圈和内挡圈以及盖体围成，盖体表面位于外挡圈和内挡圈之间开有若干第一进料口，待溶解的铜粉加入在进料仓中从第一进料口加入罐体中；

盖体表面边侧安装有若干与第一进料口相对应的第一转轴，若干第一转轴的顶端通过间歇传动组件进行传动，第一转轴的底端安装有分散进料组件；

盖体底面位于中部等角度垂直连接固定有第一连接杆，第一连接杆的底端面垂直固定有第二连接杆，第二连接杆的表面安装有固定轴，分散进料组件包括转动安装在第一转轴底端的挡盘和固定安装在固定轴顶端的进料限位调节件，挡盘的表面两侧对称开有两个第二进料口，第二进料口的底端一体连接固定有储料筒，同时储料筒底部铰接有底挡料组件；

进料限位调节件包括安装在固定轴顶端的定位圈，定位圈的底面一侧开有限位调节槽，储料筒的底部正对第一转轴的一侧垂直固定有两个第一铰接块，底挡料组件包括挡料板，挡料板的底面一侧一体连接固定有定位固定条，定位固定条表面中部一体连接固定有铰接在两个第一铰接块之间的第二铰接块，定位固定条的表面一侧垂直固定有限位杆，限位杆的顶端压在进料限位调节件底部。

进一步地，外挡圈为顶端半径大底端半径小的外喇叭口结构，内挡圈为底端半径大顶端半径小的内喇叭口结构，第一进料口的直径等于外挡圈底端内半径和内挡圈的底端外半径之间的距离。

进一步地，挡盘的表面与盖体的底面相接。

进一步地，限位杆的顶端为球形圆头。