[发明专利]一种补液式磁性复合流体抛光装置

说明书

本发明公开了一种补液式磁性复合流体抛光装置，包括：支架、分别设置于所述支架两端的端盖与注液端端盖及与所述端盖及注液端端盖固接的连接件，所述支架通过端盖与注液端端盖进行夹紧定位；所述支架包括多个置纳块，每相邻的两个置纳块之间设置有第一置纳区，所述第一置纳区内固接有橡胶块，所述橡胶块的底面及与底面相邻的一侧面和第一置纳区之间设置有第一间隙距离；所述置纳块内开设有第一置纳槽及第二置纳槽，所述第二置纳槽靠近第一间隙距离一端面上开设有补液孔，且所述第一置纳槽中放置有永磁体。根据本发明，抛光过程中可以进行补液，补充的液体成分，可以根据实际使用环境提前配置，可以提高抛光过程的稳定性，提高抛光质量。

技术领域

本发明涉及抛光装置的技术领域，特别涉及一种补液式磁性复合流体抛光装置。

背景技术

随着科学技术的飞速发展，人们对于精密零件的加工精度和表面质量要求越来越高，因此研究一种高效率和高精度的加工方法具有重要意义。磁性复合流体抛光是一种新型纳米级超精密加工技术，这种技术综合了磁流体抛光和磁流变抛光技术的优势，抛光液具有较好的黏度与粒子分布稳定性，在磁场作用下能够产生较大的作用力，具有良好的抛光效果。磁性复合流体抛光是利用磁性复合流体抛光液的磁流变效应，在磁场的作用下磁性复合流体抛光液能够快速、可逆的从牛顿流体变化为非牛顿流体，形成一个“柔性抛光模”，在抛光轮的带动下，磁性复合流体抛光液与工件表面产生相对运动，与工件表面发生划擦等作用，进而对工件表面凸起部分产生微切削作用。磁性复合流体抛光技术具有去除函数稳定、材料去除效率高、加工过程可控、拋光后的面形精度高、加工表面无亚表面损伤等特点。磁性复合流体抛光液最常用水作为基液，抛光过程中不可避免的存在水分挥发，出现抛光液逐渐变干的现象，造成抛光过程不可控，影响抛光质量。抛光过程中，随着抛光液与工件接触，抛光液成分逐渐减少，影响抛光稳定性。

发明内容

针对现有技术中存在的不足之处，本发明的目的是提供一种补液式磁性复合流体抛光装置，抛光过程中可以进行补液，补充的液体成分，可以根据实际使用环境提前配置，可以提高抛光过程的稳定性，提高抛光质量。为了实现根据本发明的上述目的和其他优点，提供了一种补液式磁性复合流体抛光装置，包括：

支架、分别设置于所述支架两端的端盖与注液端端盖及与所述端盖及注液端端盖固接的连接件，所述支架通过端盖与注液端端盖进行夹紧定位；

所述支架包括多个置纳块，多个所述置纳块之间间隔且呈圆周一体式连接形成圆周状，每相邻的两个置纳块之间设置有第一置纳区，所述第一置纳区内固接有橡胶块，所述橡胶块的底面及与底面相邻的一侧面与第一置纳区之间设置有第一间隙距离；

所述置纳块内开设有第一置纳槽及与所述第一置纳槽不相通的第二置纳槽，所述第一置纳槽位于所述第二置纳槽的正上方，所述第二置纳槽靠近第一间隙距离一端面上开设有补液孔，且所述第一置纳槽中放置有永磁体。

优选的，所述橡胶块通过调节螺栓固定于所述第一置纳区内，且橡胶块通过调节螺栓调节第一间隙距离的大小。

优选的，所述永磁体外套接有永磁体套，所述永磁体套镶嵌于第一置纳槽内。

优选的，所述连接件的两端上分别设置有连接件橡胶垫，且支架与端盖及注液端端盖之间设置有支架橡胶垫。

优选的，所述端盖与注液端端盖靠近连接件的一端面伤分别固接有搅拌块，且所述端盖上的搅拌块与注液端端盖上的搅拌块相对角度为180度。

优选的，所述注液端端盖上开设有注液口，所述注液口上螺纹连接有盖帽。

优选的，通过以下公式确定第一间隙距离的具体大小，设第一间隙距离为d：

其中，所述Q为补液流量，S为补液孔的面积，n为置纳块的数量，η为磁性复合流体液屈服后粘度，B为永磁体的磁场强度，R为抛光轮半径，N为抛光轮抛光用的转速，ρ为抛光液密度，α为修正系数。