[发明专利]一种显影清洁剂及其制备方法

说明书

本发明公开了一种显影清洁剂及其制备方法，该显影清洁剂由以下重量份的原料组成：纯水75‑85份、表面活性剂10‑20份、二乙二醇丁醚1‑3份、消泡剂0.05‑0.15份和丙烯酸钾1‑3份。有益效果：本发明的显影清洁剂为改善干膜/湿膜和油墨反粘的药水，其可以有效抑制溶于显影液的光敏聚合物发生交联反应，避免单体进行交叉结合形成聚合物，从而使槽液中未聚合光阻不会在特定环境下继续发生二次聚合反应，从而降低残胶反粘造成的品质不良比例，此外，本发明的显影清洁剂还可以清洁槽体，使显影图形线边更加齐整光滑，提升品质。

技术领域

本发明涉及清洁剂技术领域，具体来说，涉及一种显影清洁剂及其制备方法。

背景技术

PCB广泛应用于信息、通讯、工业、医疗、交通、军工、消费性等电子产品作为重要的电子产品零部件，是电子元器件的主要支撑体及电子元器件电气连接的载体。

在制作PCB过程中会利用影像转移的方式进行曝光作业，将有线路图形的菲林按照PCB板的孔位进行对准并贴在压好干膜的PCB覆铜板上，将贴好菲林的PCB板放入手动曝光机进行曝光，曝光后菲林上的线路图形会转移到PCB板面的干膜上。以此完成影像转移的过程。

在影像转移的过程中需要使用到各类光阻物料，而光阻在使用时存在以下问题：未聚合的光阻会因光、温度、PH值在显影段产生Developer Sludge(显影剂污泥)，从而直接(短路)、间接(外观)影响成品良率及外观问题。

针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。

发明内容

针对相关技术中的问题，本发明提出一种显影清洁剂及其制备方法，以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。

为此，本发明采用的具体技术方案如下：

根据本发明的一个方面，提供了一种显影清洁剂，该显影清洁剂由以下重量份的原料组成：

纯水75-85份、表面活性剂10-20份、二乙二醇丁醚1-3份、消泡剂0.05-0.15份和丙烯酸钾1-3份。

根据本发明的另一个方面，提供了一种显影清洁剂的制备方法，该制备方法包括以下步骤：

S1、称取预设重量份的纯水、表面活性剂、二乙二醇丁醚、消泡剂和丙烯酸钾，备用；

S2、将备用的所述纯水加入预先备置的反应釜中并搅拌；

S3、向所述反应釜中依次加入表面活性剂、二乙二醇丁醚、消泡剂和丙烯酸钾，并不断搅拌；

S4、当搅拌时间达到预设阈值后，获取适量的混合溶液进行检测；

S5、当质量检测合格后，取出制备后的混合溶液，并进行包装得到所需的显影清洁剂。

进一步的，所述S2中纯水的制备包括以下步骤：

将预先备置的自来水首先通过石英砂进行初步过滤，然后高压通过反渗透膜进行再过滤，最后经过紫外杀菌得到所需的纯水。

进一步的，所述S3中向所述反应釜中依次加入表面活性剂、二乙二醇丁醚、消泡剂和丙烯酸钾，并不断搅拌具体包括以下步骤：

首先向所述反应釜中加入所述表面活性剂，并搅拌预设时间，随后向所述反应釜中继续加入所述二乙二醇丁醚并搅拌预设时间，接着向所述反应釜中继续加入所述消泡剂并搅拌预设时间，最后向所述反应釜中加入所述丙烯酸钾并搅拌预设时间。

进一步的，所述预设时间为7-15分钟，优选的，搅拌时间为10分钟。

进一步的，所述S4中预设阈值为60分钟。

进一步的，所述S5中对显影清洁剂进行包装时采用蓝桶黑盖进行包装，且每个包装桶的承载量为25千克。