[发明专利]一种原位生成类金刚石膜前驱体的方法在审
申请号: | 202110237857.5 | 申请日: | 2021-03-04 |
公开(公告)号: | CN112921300A | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | 陈莹 | 申请(专利权)人: | 沈阳大学 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C25B3/03;C23C16/26 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 110000 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 原位 生成 金刚石 前驱 方法 | ||
1.一种原位生成类金刚石膜的前驱体,其特征在于,所述原位生成是不需要添加任何与碳相关的化学物质。
2.根据权利要求1所述的原位生成类金刚石膜前驱体的制备方法,其特征在于,其包括如下步骤:
在电解池中,通过施加一定的电压电解熔盐介质,然后恒温一定时间,使电解得到的还原产物与工作电极材料充分反应,原位生成乙炔化物作为碳的前驱体。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述的熔盐介质为LiCl-CaCl2或LiCl-KCl-CaCl2。
4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述的工作电极为石墨坩埚。
5.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述的对电极为螺旋镍丝或螺旋铝丝。
6.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述的参比电极为Ag/AgCl。
7.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述的电解温度为500~750℃。
8.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述的恒温时间持续10 min~1 h。
9.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述的电解电压为2.8~3.5 V(vs.Cl2/Cl-)。
10.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述的电解时间为3~30 min。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳大学,未经沈阳大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110237857.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:多柜门智能钥匙柜及智能取还钥匙系统
- 下一篇:一种内置螺旋式的双通道蒸发管
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的