[发明专利]薄膜太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110239448.9 申请日: 2021-03-04
公开(公告)号: CN113130679A 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 王志永;赵剑;吴华;张传升;郭凯 申请(专利权)人: 重庆神华薄膜太阳能科技有限公司
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/0352;H01L31/0749;H01L31/18
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 吴大建;金淼
地址: 404100 重庆*** 国省代码: 重庆;50
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摘要:
搜索关键词: 薄膜 太阳能电池 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种薄膜太阳能电池,其特征在于,包括依次叠层设置的衬底、背接触层、P型二硒化钼膜层、P型吸收层、N型缓冲层和窗口层。

2.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池,其特征在于,所述P型二硒化钼膜层的空穴浓度大于所述P型吸收层的空穴浓度。

3.根据权利要求2所述的薄膜太阳能电池,其特征在于,所述P型二硒化钼膜层的空穴浓度比所述P型吸收层的空穴浓度大1至5个数量级。

4.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池,其特征在于,所述P型二硒化钼膜层的厚度小于所述P型吸收层的厚度。

5.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池,其特征在于,所述P型吸收层包括铜铟硒膜层、铜铟镓硒膜层和铜铟镓硒硫膜层中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池,其特征在于,所述衬底为刚性衬底或柔性衬底。

7.一种薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括:

提供衬底;

在所述衬底上方形成背接触层;

在所述背接触层上方形成P型二硒化钼膜层;

在所述P型二硒化钼膜层上方形成P型吸收层;

在所述P型吸收层上方形成N型缓冲层;

在所述N型缓冲层上方形成窗口层。

8.根据权利要求7所述的薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述P型二硒化钼膜层的空穴浓度大于所述P型吸收层的空穴浓度。

9.根据权利要求8所述的薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述P型二硒化钼膜层的空穴浓度比所述P型吸收层的空穴浓度大1至5个数量级。

10.根据权利要求7所述的薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述P型二硒化钼膜层的厚度小于所述P型吸收层的厚度。

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