[发明专利]涂敷的控制方法、控制装置、处理器以及涂敷系统

权利要求书

1.一种涂敷的控制方法，其特征在于，包括：

确定待涂敷的表面区域；

根据所述表面区域确定涂敷参数；

根据所述涂敷参数，控制涂敷执行结构在所述表面区域连续涂敷，形成涂敷路径，所述涂敷路径包括依次连接的多个涂敷子路径，各所述涂敷子路径包括依次连接的四个涂敷路径段，分别为第一涂敷路径段、第二涂敷路径段、第三涂敷路径段和第四涂敷路径段，其中，所述涂敷执行结构与所述表面区域接触的部分的中心为预定中心，所述预定中心在所述第一涂敷路径段中对应的路径为第一中心线，所述预定中心在所述第三涂敷路径段中对应的路径为第二中心线，所述第一中心线和所述第二中心线相交。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述涂敷参数，控制涂敷执行结构在所述表面区域连续涂敷，形成涂敷路径，包括：

第一形成过程，控制所述涂敷执行结构移动，形成所述第一涂敷路径段，所述第一中心线包括直线段和/或曲线段；

第二形成过程，控制所述涂敷执行结构至少进行旋转，形成所述第二涂敷路径段；

第三形成过程，控制所述涂敷执行结构移动，形成所述第三涂敷路径段，所述第二中心线包括直线段和/或曲线段；

第四形成过程，控制所述涂敷执行结构至少进行旋转，形成所述第四涂敷路径段；

依次重复执行所述第一形成过程、所述第二形成过程、所述第三形成过程以及第四形成过程至少一次，直到形成预定数量的所述涂敷子路径。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，控制所述涂敷执行结构移动，形成所述第一涂敷路径段，包括：

控制所述涂敷执行结构沿第一预定方向移动，所述第一预定方向具有第一方向分量和第二方向分量，所述第一方向分量和所述第二方向分量垂直，其中，所述第二方向分量与底座的运动方向相反，所述涂敷执行结构安装在所述底座上。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，控制所述涂敷执行结构移动，形成所述第三涂敷路径段，包括：

控制所述涂敷执行结构沿第二预定方向移动，所述第二预定方向具有第三方向分量和第四方向分量，所述第三方向分量和所述第四方向分量垂直，其中，所述第四方向分量与底座的运动方向相反，所述涂敷执行结构安装在所述底座上。

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，控制所述涂敷执行结构至少进行旋转，形成所述第二涂敷路径段，包括：

控制所述涂敷执行结构与所述表面区域接触的表面的中心绕第一预定点旋转，形成与所述第一涂敷路径不具有重合部分的所述第二涂敷路径段，所述第一预定点位于所述第一涂敷路径段的靠近下一个所述涂敷子路径的一侧。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述第一预定点位于所述第二涂敷路径段的靠近下一个所述涂敷子路径的一侧。

7.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第二涂敷路径段的终点边界线与第一旋转法向之间的夹角为第三锐角，所述第一旋转法向为所述第二涂敷路径段的终点边界线的中点的切线的垂直方向。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述第三锐角在2～80°之间。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述第三锐角在5～60°之间。

10.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，控制所述涂敷执行结构至少进行旋转，形成所述第四涂敷路径段，包括：

控制所述涂敷执行结构与所述表面区域接触的表面的中心绕第二预定点旋转，形成与所述第三涂敷路径不具有重合部分的所述第四涂敷路径段，所述第二预定点位于所述第三涂敷路径段的靠近下一个所述涂敷子路径的一侧。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述第二预定点位于所述第三涂敷路径段的靠近下一步所述涂敷子路径的一侧。