[发明专利]亚表面的成像装置在审
申请号: | 202110242426.8 | 申请日: | 2021-03-03 |
公开(公告)号: | CN113030124A | 公开(公告)日: | 2021-06-25 |
发明(设计)人: | 冯胜;谢博娅;王选择;翟中生 | 申请(专利权)人: | 赤壁精迈光电科技有限公司 |
主分类号: | G01N21/958 | 分类号: | G01N21/958;G02B27/09 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 吴敏 |
地址: | 437315 湖北省咸宁市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 成像 装置 | ||
1.一种亚表面的成像装置,其特征在于,待成像件包括:相背设置的相互分离的第一表面和第二表面;
所述成像装置包括:光源组件,所述光源组件适宜于产生照明光,所述照明光至少在发散面内具有预设发散角,其中所述发散面垂直所述第一表面或第二表面中至少一个;
所述照明光耦合入所述待成像件中以形成波导光,所述波导光在所述第一表面和所述第二表面之间以导波模式传播;
所述波导光经待成像件中的目标物散射后被采集以成像。
2.如权利要求1所述的成像装置,其特征在于,所述待成像件还包括:位于所述第一表面和第二表面之间的侧面,所述侧面与所述第一表面和第二表面均相交,所述照明光经所述侧面耦合入所述待成像件以形成波导光。
3.如权利要求2所述的成像装置,其特征在于,所述照明光无接触耦合入所述待成像件的侧面。
4.如权利要求1所述的成像装置,其特征在于,所述光源组件为点状光源组件、一维点阵光源组件或线状光源组件。
5.如权利要求4所述的成像装置,其特征在于,所述光源组件为垂直所述发散面的一维点阵光源组件;或者,所述光源组件为垂直所述发散面的线状光源组件。
6.如权利要求4所述的成像装置,其特征在于,所述光源组件包括:
发光模块,所述发光模块适宜于产生光线;
耦合模块,所述耦合模块适宜于对所述发光模块所产生的光线整形以形成所述照明光。
7.如权利要求6所述的成像装置,其特征在于,所述耦合模块包括:光纤、光波导或柱状透镜中的至少一个。
8.如权利要求6所述的成像装置,其特征在于,还包括:耦合检测组件,所述耦合检测组件适宜于调节所述照明光耦合入所述待成像件中的耦合效率。
9.如权利要求8所述的成像装置,其特征在于,所述耦合检测组件包括:感光元件,沿导波延伸方向,所述感光元件与所述光源组件分别位于所述待成像件的两侧。
10.如权利要求1所述的成像装置,其特征在于,还包括:辅助光源组件,所述辅助光源组件适宜于产生辅助照明光,所述辅助照明光投射至所述第一表面和所述第二表面中至少一个。
11.如权利要求10所述的成像装置,其特征在于,所述辅助照明光掠入射至所述第一表面和所述第二表面中至少一个。
12.如权利要求10所述的成像装置,其特征在于,所述辅助光源组件为平行光光源组件。
13.如权利要求10所述的成像装置,其特征在于,所述辅助光源组件产生发散角小于10°的光线。
14.如权利要求1所述的成像装置,其特征在于,所述待成像件中,沿导波延伸方向的尺寸为所述待成像件的长度,垂直波导延伸方向且平行所述发散面的尺寸为所述待成像件的厚度;所述待成像件的长度大于所述待成像件的厚度。
15.如权利要求1或14所述的成像装置,其特征在于,所述照明光的预设发散角为α=2tan-1(D/2R),其中D为垂直导波延伸方向且平行所述发散面的所述待成像件的尺寸,R为所述光源组件光线出射的端面至所述待成像件的距离。
16.如权利要求1所述的成像装置,其特征在于,还包括:成像组件,适宜于采集经散射的波导光以进行成像。
17.如权利要求16所述的成像装置,其特征在于,所述成像组件包括:图像传感器。
18.如权利要求17所述的成像装置,其特征在于,所述图像传感器为面阵列图像传感器。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赤壁精迈光电科技有限公司,未经赤壁精迈光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110242426.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种制冷设备
- 下一篇:既有建筑地下空间开发的土体取运装置及方法