[发明专利]被检测体的平坦度测量装置

说明书

提供一种被检测体的平坦度测量装置，包括：激光光源，配置在所述被检测体的上部并且产生具有从所述被检测体能够被反射的波长的激光；标准具干涉仪，配置在所述被检测体与所述激光光源之间，并且将所述激光变换成照射到所述被检测体的激光阵列；以及分析部，配置在所述被检测体的上部，并且利用从所述被检测体反射的激光阵列来测量所述被检测体的平坦度。因此，可精密地测量如玻璃基板这样的被检测体的平坦度，由此可通过玻璃基板的平坦度的补偿来降低显示装置的工序不良。

技术领域

本发明涉及被检测体的平坦度测量方法及用于执行平坦度测量方法的装置，更详细而言，涉及测量玻璃基板的表面平坦度的方法以及用于执行该方法的装置。

背景技术

对于主要用于显示装置中的玻璃基板而言，要求其具有出色的平坦度。若玻璃基板具有低的平坦度，则待形成于玻璃基板的表面的各种膜也可能会具有不均匀的厚度。具有不均匀的厚度的各种膜可能会引起工序不良。

因此，要求精密地测量玻璃基板和形成于玻璃基板的表面的膜的平坦度的方法和装置。

发明内容

本发明提供能够精密地测量如玻璃基板这样的被检测体的平坦度的方法。

此外，本发明还提供用于执行所述的方法的装置。

根据本发明的一方面涉及的被检测体的平坦度测量方法，可将具有从被检测体能够被反射的波长的激光变换成激光阵列。可向所述被检测体照射所述激光阵列。可利用从所述被检测体反射的激光阵列来测量所述被检测体的平坦度。

在各示例性实施例中，所述被检测体的平坦度的测量可包括：利用从所述被检测体反射的所述激光阵列来测量与所述被检测体的各个位置对应的反射率；以及从所述反射率获得与所述被检测体的各个位置对应的厚度。

在各示例性实施例中，所述被检测体的平坦度的测量可包括：利用从所述被检测体反射的所述激光阵列，测量所述被检测体的变形引起的与所述被检测体的各个位置对应的应力。

在各示例性实施例中，所述方法还可包括：比较与所述被检测体的各个位置对应的应力和与基准被检测体的各个位置对应的应力，从而获得与所述被检测体的各个位置对应的实际应力。

在各示例性实施例中，所述方法还可包括：在将所述激光变换成所述激光阵列之前，对所述激光进行滤波。

在各示例性实施例中，所述被检测体可包括玻璃基板或形成在所述玻璃基板上的至少一个膜。

本发明的另一方面涉及的被检测体的平坦度测量装置可包括激光光源、标准具干涉仪和分析部。所述激光光源可配置在被检测体的上部，并且产生具有从所述被检测体能够被反射的波长的激光。所述标准具干涉仪可配置在所述被检测体与所述激光光源之间，并且将所述激光变换成照射到所述被检测体的激光阵列。所述分析部可配置在所述被检测体的上部，并且利用从所述被检测体反射的激光阵列来测量所述被检测体的平坦度。

在各示例性实施例中，所述激光光源可配置在第一垂直方向以及第二垂直方向上并沿着所述第二垂直方向产生所述激光，其中，所述第一垂直方向垂直地经过所述被检测体，并且所述第二垂直方向在平面上的其他位置处与所述第一垂直方向平行。

在各示例性实施例中，所述平坦度测量装置还可包括：分束器，配置在所述标准具干涉仪与所述被检测体之间，并且将所述激光阵列从所述第二垂直方向引导到所述第一垂直方向。

在各示例性实施例中，所述分析部可位于所述第一垂直方向上。

在各示例性实施例中，所述平坦度测量装置还可包括：滤波器，配置在所述激光光源与所述标准具干涉仪之间，并且对所述激光进行滤波。

在各示例性实施例中，所述激光光源可配置在沿着第一方向与所述被检测体的表面倾斜的位置处。所述分析部可配置在沿着与所述第一方向相反的第二方向倾斜的位置处。