[发明专利]用于制造发光物质颗粒的方法有效
申请号: | 202110246403.4 | 申请日: | 2017-03-01 |
公开(公告)号: | CN113073308B | 公开(公告)日: | 2023-02-21 |
发明(设计)人: | 索尼娅·特拉格尔;蒂姆·菲德勒;弗兰克·耶尔曼 | 申请(专利权)人: | 欧司朗光电半导体有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/50;C23C16/56;C23C16/40;C23C16/34;C23C16/30;C09K11/77 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 丁永凡;周涛 |
地址: | 德国雷*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 发光 物质 颗粒 方法 | ||
1.一种用于制造发光物质颗粒的方法,所述发光物质颗粒具有至少一个第一保护层,所述方法包括下述方法步骤:
A)提供发光物质颗粒(1),
B)通过酸溶液处理所述发光物质颗粒(1),其中所述酸溶液的pH值在至少一小时的时间段内保持在pH3.5至pH7的范围内,使得含硅的第二保护层(3)形成在所述发光物质颗粒(1)的表面上,所述含硅的第二保护层(3)与所述发光物质颗粒(1)相比具有更高含量的硅,和/或含铝的第二保护层(3)形成在所述发光物质颗粒(1)的表面上,所述含铝的第二保护层与所述发光物质颗粒(1)相比在所述表面上具有变化的铝含量,
D)借助于原子层沉积将至少一个第一保护层(2)施加到所述第二保护层(3)的表面上,其中方法步骤D)包括下述方法步骤:
D1)借助于原子层沉积将第一起始化合物沉积在所述发光物质颗粒(1)的表面上,
D2)借助于原子层沉积将第二起始化合物沉积在所述发光物质颗粒(1)的表面上。
2.根据权利要求1所述的方法,
其中所述第一起始化合物选自如下组,所述组包括金属有机化合物和金属卤化物,并且其中所述第二起始化合物选自如下组,所述组包括H2O、H2S、NH3和O3。
3.根据权利要求2所述的方法,
其中所述金属有机化合物或者所述金属卤化物的金属选自铝、锡、锌、钛、锆、钽、铌和/或铪。
4.根据权利要求1所述的方法,
其中所述第一起始化合物选自如下化合物的组,所述组包括MClx、MBrx、M(CH3)x、M(CH2-CH3)x、M(CH2-CH2-CH3)x、M(OCH3)x、M(OCH2-CH3)x和M(OCH2-CH2-CH3)x,其中M代表B、Al、Si、Sn、Zn、Ti、Zr、Ta、Nb和/或Hf,并且x对应于M的化合价。
5.根据权利要求4所述的方法,
其中所述第一起始化合物选自如下化合物的组,所述组包括AlCl3、AlBr3、Al(CH3)3、Al(CH2-CH3)3、Al(CH2-CH2-CH3)3、Al(OCH3)3、Al(OCH2-CH3)3和Al(OCH2-CH2-CH3)3。
6.根据权利要求1所述的方法,
其中执行方法步骤D)多次,使得所述发光物质颗粒(1)的表面借助于多个第一保护层(2)覆层。
7.根据权利要求1所述的方法,
其中在方法步骤D)之后进行另一方法步骤:
E)在200℃和500℃之间的温度中将涂层有至少一个第一保护层(2)的所述发光物质颗粒(1)退火。
8.根据权利要求7所述的方法,
其中在方法步骤E)中的退火在惰性气体气氛、含氧气氛或者含H2气氛下进行。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的