[发明专利]一种神经元电路有效
申请号: | 202110248465.9 | 申请日: | 2021-03-05 |
公开(公告)号: | CN112766480B | 公开(公告)日: | 2023-10-27 |
发明(设计)人: | 徐元;顾德恩;周鑫;高靖;蒋亚东 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G06N3/063 | 分类号: | G06N3/063 |
代理公司: | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人: | 梁伟东 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 神经元 电路 | ||
1.一种神经元电路,其特征在于:包括兴奋生成电路、整形电路和波形转换电路,
兴奋生成电路,用于接收输入激励信号,通过对输入激励信号的积累和决策,输出连续振荡信号或单个振荡信号;
整形电路,用于接收兴奋生成电路输出的连续振荡信号或单个振荡信号,波形调整后输出波形信号;
波形转换电路,用于接收整形电路输出的波形信号,进行波形转换和信号放大,输出响应信号。
2.根据权利要求1所述的一种神经元电路,其特征在于:所述兴奋生成电路包括第一电阻元件,第一电阻元件一端连接电压输入端、另一端连接第一电容原件的一端;第一电容元件的另一端连接VO2相变电阻器。
3.根据权利要求2所述的一种神经元电路,其特征在于:所述VO2相变电阻器中VO2阻性材料采用三步法工艺进行制备,三步法工艺由反应溅射、快速退火和电诱导晶化依次组成。
4.根据权利要求3所述的一种神经元电路,其特征在于:所述反应溅射工艺采用常规氧化钒反应溅射工艺;所用快速退火工艺在空气气氛下进行,退火时间在1-10分钟,退火温度为350-450℃。
5.根据权利要求3所述的一种神经元电路,其特征在于:所述电诱导晶化工艺具体流程为:在室温环境下,在快速退火后氧化钒二端器件的两端电极施加直流扫描,监控器件电流,直至流过器件的电流产生跳变,即完成电诱导晶化工艺。
6.根据权利要求2所述的一种神经元电路,其特征在于:所述整形电路包括第二电容元件,第二电容元件的一端连接第一电阻元件和VO2相变电阻器、另一端依次连接第三电容元件的一端、第二电阻元件的一端和第四电容元件的一端。
7.根据权利要求6所述的一种神经元电路,其特征在于:所述第二电容元件和第一电容元件的电容值相等。
8.根据权利要求6所述的一种神经元电路,其特征在于:所述波形转换电路包括第四电容元件,第四电容元件另一端连接NPN三极管的基极和第三电阻元件一端、NPN三极管的集电连极接第四电阻元件的一端、第四电阻元件另一端连接第三电阻元件另一端,集电极连接第五电容元件的一端,第五电容元件另一端连接经元电路输出端;NPN三极管的发射极连接第六电阻元件。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110248465.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。