[发明专利]一种神经元电路有效

专利信息
申请号: 202110248465.9 申请日: 2021-03-05
公开(公告)号: CN112766480B 公开(公告)日: 2023-10-27
发明(设计)人: 徐元;顾德恩;周鑫;高靖;蒋亚东 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G06N3/063 分类号: G06N3/063
代理公司: 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 代理人: 梁伟东
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 神经元 电路
【权利要求书】:

1.一种神经元电路,其特征在于:包括兴奋生成电路、整形电路和波形转换电路,

兴奋生成电路,用于接收输入激励信号,通过对输入激励信号的积累和决策,输出连续振荡信号或单个振荡信号;

整形电路,用于接收兴奋生成电路输出的连续振荡信号或单个振荡信号,波形调整后输出波形信号;

波形转换电路,用于接收整形电路输出的波形信号,进行波形转换和信号放大,输出响应信号。

2.根据权利要求1所述的一种神经元电路,其特征在于:所述兴奋生成电路包括第一电阻元件,第一电阻元件一端连接电压输入端、另一端连接第一电容原件的一端;第一电容元件的另一端连接VO2相变电阻器。

3.根据权利要求2所述的一种神经元电路,其特征在于:所述VO2相变电阻器中VO2阻性材料采用三步法工艺进行制备,三步法工艺由反应溅射、快速退火和电诱导晶化依次组成。

4.根据权利要求3所述的一种神经元电路,其特征在于:所述反应溅射工艺采用常规氧化钒反应溅射工艺;所用快速退火工艺在空气气氛下进行,退火时间在1-10分钟,退火温度为350-450℃。

5.根据权利要求3所述的一种神经元电路,其特征在于:所述电诱导晶化工艺具体流程为:在室温环境下,在快速退火后氧化钒二端器件的两端电极施加直流扫描,监控器件电流,直至流过器件的电流产生跳变,即完成电诱导晶化工艺。

6.根据权利要求2所述的一种神经元电路,其特征在于:所述整形电路包括第二电容元件,第二电容元件的一端连接第一电阻元件和VO2相变电阻器、另一端依次连接第三电容元件的一端、第二电阻元件的一端和第四电容元件的一端。

7.根据权利要求6所述的一种神经元电路,其特征在于:所述第二电容元件和第一电容元件的电容值相等。

8.根据权利要求6所述的一种神经元电路,其特征在于:所述波形转换电路包括第四电容元件,第四电容元件另一端连接NPN三极管的基极和第三电阻元件一端、NPN三极管的集电连极接第四电阻元件的一端、第四电阻元件另一端连接第三电阻元件另一端,集电极连接第五电容元件的一端,第五电容元件另一端连接经元电路输出端;NPN三极管的发射极连接第六电阻元件。

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