[发明专利]抛光垫及研磨装置有效
| 申请号： | 202110249345.0 | 申请日： | 2021-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN113084696B | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 高林 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B37/10;B24B7/22 |
| 代理公司： | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人： | 蔡纯;岳丹丹 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 研磨 装置 | ||
1.一种抛光垫，其特征在于，包括：
多个贯穿所述抛光垫的通孔，所述多个通孔分布在所述抛光垫的中心周围；
凹槽，位于所述抛光垫背向晶圆的第二表面上，将所述多个通孔连通，
其中，所述凹槽包括圆形凹槽和直线凹槽，所述圆形凹槽连通位于该圆形凹槽所在的圆周上的多个通孔，所述直线凹槽连通位于该直线凹槽的延长线上的多个通孔，所述多个通孔均匀分布在圆形区域内，所述圆形区域的中心与所述抛光垫的中心重合，在晶片沿中心旋转时，所述圆形 区域可以划过整个晶片。
2.根据权利要求1所述抛光垫，其特征在于，所述抛光垫的中心位置具有通孔。
3.根据权利要求1所述抛光垫，其特征在于，所述圆形区域的最大半径为75cm。
4.根据权利要求1所述抛光垫，其特征在于，所述多个通孔分布在所述圆形区域内的多个同心圆上，多个同心圆的中心与所述抛光垫的中心重合。
5.根据权利要求1所述抛光垫，其特征在于，位于圆形区域的多个通孔呈十字形，米字形，一字型或Y字形中的任一种方式排布。
6.一种研磨装置，其特征在于，包括：
第一基座，用于放置待抛光晶圆；
第二基座，位于所述第一基座上方，所述第二基座中形成有贯穿所述第二基座的研磨液通道；
抛光垫，所述抛光垫为权利要求1至5中任一项所述的抛光垫，
其中，所述研磨液通道与所述抛光垫的通孔连通。
7.根据权利要求6所述研磨装置，其特征在于，所述抛光垫的第二表面与所述第二基座接触。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长江存储科技有限责任公司，未经长江存储科技有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110249345.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
