[发明专利]研磨装置、处理系统和研磨方法在审
申请号: | 202110253439.5 | 申请日: | 2021-03-05 |
公开(公告)号: | CN113352229A | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
发明(设计)人: | 森浦拓也;外崎宏;曾根忠一;伊藤雅佳;小畠严贵;松尾尚典;寺田哲也 | 申请(专利权)人: | 株式会社荏原制作所 |
主分类号: | B24B37/10 | 分类号: | B24B37/10;B24B37/34;B24B57/02;B24B41/02;H01L21/306 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 张丽颖 |
地址: | 日本国东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 装置 处理 系统 方法 | ||
1.一种研磨装置,包含:
工作台,该工作台用于支承研磨垫;
研磨头,该研磨头用于保持对象物;以及
研磨液供给装置,该研磨液供给装置用于向所述研磨垫与所述对象物之间供给研磨液,
所述研磨装置通过在研磨液的存在下使所述研磨垫与所述对象物接触并相互旋转运动,从而进行所述对象物的研磨,该研磨装置的特征在于,
所述研磨液供给装置具有多个研磨液供给口,该多个研磨液供给口在相对于所述对象物配置在所述研磨垫的旋转上游侧的状态下,在与所述研磨垫的旋转方向交叉的方向上排列,
所述研磨液供给装置以从所述多个研磨液供给口供给的研磨液成为规定的流量分布的方式供给研磨液。
2.根据权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,
所述研磨液供给装置包含:
研磨液供给部件,该研磨液供给部件用于供给研磨液;
臂,该臂用于保持所述研磨液供给部件;以及
流量调整机构,该流量调整机构用于调整从所述研磨液供给部件供给的研磨液的流量,
所述臂构成为,能够以配置在所述研磨垫外的旋转轴为中心旋转,
所述研磨液供给部件包含:
所述多个研磨液供给口;以及
缓冲部,该缓冲部与所述流量调整机构和所述多个研磨液供给口连接。
3.根据权利要求1或2所述的研磨装置,其特征在于,
所述多个研磨液供给口的开口直径为0.3至2mm。
4.根据权利要求1或2所述的研磨装置,其特征在于,
所述研磨液供给装置的所述多个研磨液供给口形成在与所述对象物的直径对应的范围,并且以使所述范围中的研磨液的流量分布变得均匀的方式供给研磨液。
5.根据权利要求1或2所述的研磨装置,其特征在于,
所述研磨液供给装置的所述多个研磨液供给口形成在与接近所述研磨垫的旋转中心的一侧的所述对象物的半径对应的范围,并且以使所述范围中的研磨液的流量分布变得均匀的方式供给研磨液。
6.根据权利要求4所述的研磨装置,其特征在于,
所述多个研磨液供给口的开口直径相同,在与所述对象物的直径对应的范围、或者与接近所述研磨垫的旋转中心的一侧的所述对象物的半径对应的范围中,该多个研磨液供给口以均等间隔配置。
7.根据权利要求1或2所述的研磨装置,其特征在于,
所述研磨液供给装置的所述多个研磨液供给口形成在从所述对象物的旋转中心在所述研磨垫的旋转轨迹上的对应的位置朝向与所述对象物的两外周对应的位置的等距离的范围,并且以研磨液的流量在所述范围中从所述对象物的旋转中心在所述研磨垫的旋转轨迹上的对应的位置朝向与所述对象物的两外周对应的位置而增加的方式供给研磨液。
8.根据权利要求1或2所述的研磨装置,其特征在于,
所述研磨液供给装置的所述多个研磨液供给口形成在与接近所述研磨垫的旋转中心的一侧的所述对象物的半径对应的范围,并且以研磨液的流量在所述范围中从所述对象物的旋转中心在所述研磨垫的旋转轨迹上的对应的位置朝向与接近所述研磨垫的旋转中心的一侧的所述对象物的外周对应的位置而增加的方式供给研磨液。
9.根据权利要求7所述的研磨装置,其特征在于,
从所述对象物的旋转中心在所述研磨垫的旋转轨迹上的对应的位置朝向与所述对象物的两外周对应的位置、或者从所述对象物的旋转中心在所述研磨垫的旋转轨迹上的对应的位置朝向与接近所述研磨垫的旋转中心的一侧的所述对象物的外周对应的位置,所述多个研磨液供给口的开口中心以均等间隔配置,并且开口直径连续地或者每隔一定数量而增加。
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