[发明专利]使用双自由层的磁传感器电桥在审
申请号: | 202110254168.5 | 申请日: | 2021-03-09 |
公开(公告)号: | CN113848517A | 公开(公告)日: | 2021-12-28 |
发明(设计)人: | 刘小勇;Q·勒;Z·白;D·毛里;Z·李;K·S·胡;T·A·阮;R·纳加比拉瓦 | 申请(专利权)人: | 西部数据技术公司 |
主分类号: | G01R33/09 | 分类号: | G01R33/09;G01R33/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 徐东升 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 自由 传感器 电桥 | ||
1.一种传感器装置,包括:
第一电阻器,所述第一电阻器包括:
至少一个第一双自由层(DFL)传感器;和
至少一个第一磁性结构,其中每个第一磁性结构包括:
第一反铁磁(AFM)层;和
设置在所述第一AFM层上方的合成反铁磁(SAF)结构,其中当以横截面观察时,所述至少一个第一DFL传感器与所述SAF结构线性对准;和
第二电阻器,所述第二电阻器包括:
至少一个第二DFL传感器;和
至少一个第二磁性结构。
2.根据权利要求1所述的传感器装置,其中所述SAF结构包括:
第一铁磁层;
设置在所述第一铁磁层上方的间隔层;和
设置在所述间隔层上方的第二铁磁层。
3.根据权利要求2所述的传感器装置,其中所述至少一个第一DFL传感器与所述第二铁磁层线性对准。
4.根据权利要求1所述的传感器装置,其中所述至少一个第二磁性结构包括:
第二AFM层;和
设置在所述第二AFM层上方的铁磁层。
5.根据权利要求4所述的传感器装置,其中当以横截面观察时,所述至少一个第二DFL传感器与所述铁磁层线性对准。
6.根据权利要求1所述的传感器装置,其中所述至少一个第一DFL传感器包括多个第一DFL传感器,其中所述至少一个第一磁性结构包括多个第一磁性结构,并且其中所述多个第一DFL传感器的数量大于所述多个第一磁性结构的数量。
7.根据权利要求6所述的传感器装置,其中所述至少一个第二DFL传感器包括多个第二DFL传感器,其中所述至少一个第二磁性结构包括多个第二磁性结构,并且其中所述多个第二DFL传感器的数量大于所述多个第二磁性结构的数量。
8.根据权利要求1所述的传感器装置,还包括:
第三电阻器,其中所述第三电阻器与所述第一电阻器基本上相同;和
第四电阻器,其中所述第四电阻器与所述第二电阻器基本上相同。
9.根据权利要求1所述的传感器装置,其中所述传感器装置为惠斯通电桥阵列。
10.一种传感器装置,包括:
第一电阻器,所述第一电阻器包括:
至少一个第一双自由层(DFL)传感器;和
至少一个磁性结构,其中每个磁性结构包括:
第一永磁体;和
设置在所述第一永磁体上方的合成反铁磁(SAF)结构,其中当以横截面观察时,所述至少一个第一DFL传感器与所述SAF结构线性对准;和
第二电阻器,所述第二电阻器包括:
至少一个第二DFL传感器;和
至少一个第二永磁体,其中当以横截面观察时,所述至少一个第二DFL传感器与所述至少一个第二永磁体线性对准。
11.根据权利要求10所述的传感器装置,其中所述至少一个第一DFL传感器是串联连接的多个第一DFL传感器。
12.根据权利要求10所述的传感器装置,其中所述至少一个第二DFL传感器是串联连接的多个第二DFL传感器。
13.根据权利要求10所述的传感器装置,其中所述SAF结构包括:
第一铁磁层;
设置在所述第一铁磁层上方的间隔层;和
设置在所述间隔层上方的第二铁磁层,其中所述至少一个第一DFL传感器与所述第二铁磁层线性对准。
14.根据权利要求10所述的传感器装置,其中所述至少一个磁性结构包括多个磁性结构,其中所述至少一个第二永磁体包括多个第二永磁体,其中所述多个磁性结构的数量等于所述多个第二永磁体的数量。
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