[发明专利]遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图有效

专利信息
申请号: 202110254749.9 申请日: 2021-03-05
公开(公告)号: CN112949242B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 王悦 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392;G06F30/398;G06F111/20
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 远明
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 遮光 版图 绘制 方法
【权利要求书】:

1.一种遮光带版图绘制方法,其特征在于,包括:

获取所述遮光带版图的绘制配置信息,所述绘制配置信息包括绘制原始版图标识、所述遮光带版图的绘制范围的尺寸信息;

调用版图数据库,所述版图数据库包括至少一绘制原始版图和与所述绘制原始版图对应的所述绘制原始版图标识;

根据所述绘制原始版图标识在所述版图数据库中确定所述绘制原始版图;

根据所述绘制原始版图设定第一空心阵列组,包括:复制所述绘制原始版图;将所述绘制原始版图按照3*3的方式阵列,其中,所述阵列的中心位置不包括所述绘制原始版图;

根据所述第一空心阵列组、所述绘制范围的尺寸信息确定所述绘制范围;

根据所述第一空心阵列组和所述绘制范围生成所述遮光带版图。

2.如权利要求1所述的遮光带版图绘制方法,其特征在于,所述根据所述第一空心阵列组和所述绘制范围生成所述遮光带版图的步骤,包括:

获取所述第一空心阵列组的图案信息;

调用预设的DRCrule绘制模型;

根据所述第一空心阵列组的图案信息和所述DRC rule绘制模型,对所述绘制范围内的所述第一空心阵列组的图案做适应性调整生成所述遮光带版图。

3.如权利要求1所述的遮光带版图绘制方法,其特征在于,所述根据所述第一空心阵列组、所述绘制范围的尺寸信息确定所述绘制范围的步骤包括:

获取所述第一空心阵列组的中心坐标;

根据所述第一空心阵列组的中心坐标和所述绘制范围的尺寸信息确定所述绘制范围。

4.如权利要求2所述的遮光带版图绘制方法,其特征在于,所述第一空心阵列组的图案信息包括标记信息和图形信息;所述根据所述第一空心阵列组的图案信息和所述DRC rule绘制模型,对所述绘制范围内的所述第一空心阵列组的图案做适应性调整生成所述遮光带版图的步骤之前,还包括:

删除所述标记信息。

5.如权利要求1所述的遮光带版图绘制方法,其特征在于,在所述根据所述第一空心阵列组和所述绘制范围生成所述遮光带版图的步骤之后,还包括:

获取所述遮光带版图的检查配置信息,所述检查配置信息包括检查原始版图标识;

根据所述检查原始版图标识在所述版图数据库中确定检查原始版图;

根据所述检查原始版图设定第二空心阵列组;

根据所述第二空心阵列组和所述遮光带版图确定检查区域;

根据所述第二空心阵列组、所述遮光带版图和所述检查区域生成检查结果。

6.如权利要求5所述的遮光带版图绘制方法,其特征在于,所述根据所述第二空心阵列组、所述遮光带版图和所述检查区域生成检查结果的步骤,包括:

获取所述第二空心阵列组的图案信息;

获取所述遮光带版图的图案信息;

调用预设的DRCrule检查模型;

根据所述第二空心阵列组的图案信息、所述遮光带版图的图案信息、所述DRC rule检查模型和所述检查区域生成所述检查结果。

7.如权利要求5所述的遮光带版图绘制方法,其特征在于,所述根据所述第二空心阵列组和所述遮光带版图确定检查区域的步骤包括;

获取所述第二空心阵列组的中心坐标;

根据所述第二空心阵列组的中心坐标和所述遮光带版图确定所述检查区域。

8.一种光罩版图绘制方法,其特征在于,采用如权利要求1至7任一项所述的遮光带版图绘制方法生成所述遮光带版图后,还包括:将所述遮光带版图与所述绘制原始版图按照中心重合的原则合并生成光罩版图。

9.一种光罩版图,其特征在于,采用如权利要求8所述的光罩版图绘制方法生成。

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