[发明专利]一种镀膜方法及镀膜设备

权利要求书

1.一种镀膜方法，其特征在于，包括：

S1、初始化步骤，对镀膜设备的治具架上多个位置进行编码标定分配相应编号，各编号位置呈环形阵列排列；

S2、进行多次循环步骤，直至每个所述编号位置处的产品的膜层厚度与多个所述产品的平均膜层厚度的差值小于预设值，所述循环步骤包括：

S21、依次检测每个所述编号位置处的产品的编号位置膜厚，得到多个编号位置膜厚；

S22、根据多个所述编号位置膜厚计算得到平均膜厚；

S23、根据所述平均膜厚及每个所述编号位置对应的所述编号位置膜厚，计算得到每个所述编号位置的膜厚差值，所述膜厚差值为所述编号位置膜厚与所述平均膜厚的差值；

S24、根据每个所述编号位置的所述膜厚差值及预设算法，得到每个所述编号位置对应的旋转速度；

S25、在预设编号位置经过镀膜设备的预设部分时，控制治具架以所述预设编号位置对应的旋转速度旋转，直至遍历所有所述编号位置，所述预设编号位置为多个所述编号位置中的任一个，所述预设部分与镀膜设备的入料口在预设平面上的正投影重合，所述预设平面平行于镀膜设备的顶面或底面。

2.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，所述预设算法包括转换公式，在步骤S5中，根据每个所述编号位置的所述膜厚差值及所述转换公式，得到每个所述编号位置对应的旋转速度，所述转换公式为：

N_μ＝N×ΔV+N，式中，N_μ表示μ号编号位置对应的旋转速度，N表示未调节前的旋转速度，ΔV表示μ号编号位置对应的膜厚差值。

3.根据权利要求2所述的镀膜方法，其特征在于，所述膜厚差值的计算公式为：ΔV＝V_p-V_μ，其中，V_p表示所述平均膜厚，V_μ表示μ号编号位置对应的编号位置膜厚。

4.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，在步骤S21中，控制治具架旋转一圈，以使每个所述编号位置处的产品依次经过厚度测量装置，进而得到每个所述编号位置处的产品的编号位置膜厚。

5.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，在步骤S6中，上一个编号位置在镀膜设备上的正投影刚好位于所述预设部分外时，控制治具架以所述预设编号位置对应的旋转速度旋转，上一个编号位置为位于所述预设编号位置上游的编号位置。

6.一种镀膜设备，其特征在于，包括：

壳体(1)，所述壳体(1)内设有治具架(2)，且所述壳体(1)的壁面上设有入料口(11)；

厚度测量装置(3)，用于检测所述治具架(2)上产品的编号位置膜厚；

编号标定模块，用于所述治具架上多个位置进行编码标定分配相应编号，各编号位置呈环形阵列排列；

处理模块，用于根据多个所述编号位置膜厚计算得到平均膜厚，根据所述平均膜厚及每个所述编号位置对应的所述编号位置膜厚，计算得到每个所述编号位置的膜厚差值，所述膜厚差值为所述编号位置膜厚与所述平均膜厚的差值，以及根据每个所述编号位置的所述膜厚差值及预设算法，得到每个所述编号位置对应的旋转速度；

动力装置(4)，连接于所述治具架(2)，并用于在预设编号位置经过所述壳体(1)的预设部分时，驱动所述治具架(2)以所述预设编号位置对应的旋转速度旋转，直至遍历所有所述编号位置，所述预设编号位置为多个所述编号位置中的任一个，所述预设部分与壳体(1)的入料口(11)在预设平面上的正投影重合，所述预设平面平行于壳体(1)的顶面或底面。

7.根据权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，所述壳体(1)的顶盖(13)上具有透明视窗(12)，所述厚度测量装置(3)通过所述透明视窗(12)检测所述产品的所述编号位置膜厚。

8.根据权利要求7所述的镀膜设备，其特征在于，多个所述编号位置相对于所述治具架(2)的中心轴线排列成圆形，使得所述治具架(2)旋转时，多个所述编号位置依次经过所述透明视窗(12)的下方。