[发明专利]蒸镀源单元、蒸镀源和蒸镀源用喷嘴在审
| 申请号： | 202110255176.1 | 申请日： | 2021-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN113373411A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 塩野忠久;长田佑介;金子滉明;若林雅;铃木裕二 | 申请（专利权）人： | 株式会社昭和真空;株式会社V技术 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙) 11276 | 代理人： | 张瑛 |
| 地址： | 日本神奈川*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蒸镀源 单元 蒸镀源用 喷嘴 | ||
1.一种蒸镀源单元，其使蒸镀材料蒸镀到基板的表面上，其中，
所述蒸镀源单元具有喷嘴，所述喷嘴具有喷射被加热的所述蒸镀材料的喷出口，
在所述喷嘴上形成有沿与该喷嘴的延伸方向相同的方向延伸的多个孔，该多个孔的一端部在所述喷出口开口，
所述孔的纵横比为2以上，所述孔的长度为分子的平均自由行程的1/5以下。
2.根据权利要求1所述的蒸镀源单元，其中，
在从所述喷出口观察所述喷嘴时，所述多个孔在与所述喷嘴的直径上引出的假想线平行的第1方向上排列有多列，相邻列之间的孔的中心互相错开地配置。
3.一种蒸镀源，其具有多个权利要求1或2所述的蒸镀源单元，其中，
与多个所述蒸镀源单元对应的多个所述喷嘴隔开规定的间距排列在第2方向上。
4.根据权利要求3所述的蒸镀源，其中，
在所述多个喷嘴中的相邻的喷嘴之间配置有限制板，所述限制板限制从各所述喷出口喷射的蒸镀材料的喷射方向。
5.根据权利要求4所述的蒸镀源，其中，
所述限制板以其板面与配置有所述多个喷嘴的所述第2方向垂直的方式配置。
6.根据权利要求5所述的蒸镀源，其中，
所述喷嘴以排列有所述多个孔的所述第1方向与配置有所述限制板的方向具有规定的角度的方式配置。
7.一种蒸镀源用喷嘴，其在使蒸镀材料蒸镀到基板表面上的蒸镀源中使用，其中，
纵横比为2以上，喷嘴的长度为分子的平均自由行程的1/5以下。
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