[发明专利]可调控Co2 有效
申请号: | 202110255553.1 | 申请日: | 2021-03-09 |
公开(公告)号: | CN113036034B | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
发明(设计)人: | 李明华;陈宇;许铭扬;李阔;刘沛桥;张垚;于广华 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | H10N50/85 | 分类号: | H10N50/85;H10N50/80;H10N50/01 |
代理公司: | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人: | 朱艳华 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 调控 co base sub | ||
本发明属于磁性薄膜领域,尤其涉及一种可调控Cosubgt;2/subgt;FeX合金垂直磁各向异性的磁性薄膜材料及方法:该磁性薄膜材料包括:基底、缓冲层、磁性层、氧化物层和保护层,磁性层的磁性材料为断裂式的Cosubgt;2/subgt;FeX/Zr/Cosubgt;2/subgt;FeX,Zr占磁性层的量比为0.001‑50%,X为Al、Si或Mn中的一种或者多种。本发明的有益效果是,该磁性薄膜材料是在以Ta或者其它金属做为缓冲层和保护层,在缓冲层上沉积Cosubgt;2/subgt;FeX/Zr/Cosubgt;2/subgt;FeX,再沉积金属氧化物层,利用对氧有较强亲和力的Zr来调控Cosubgt;2/subgt;FeX中Co、Fe氧化物的比例,改善薄膜中输运性能,同时提高薄膜的垂直磁各向异性,以满足磁性随机存储器和磁传感器的应用需求。
技术领域
本发明属于磁性薄膜领域,涉及一种可调控Co2FeX合金垂直磁各向异性的磁性薄膜材料及方法。
背景技术
赫斯勒合金具有高自旋极化率、低阻尼常数、高的居里温度,满足磁性随机存储器(MRAM)中低磁化翻转电流的需求,有望成为下一代高密度垂直磁记录器件MRAM的电极材料而广泛受到关注。但该合金由于磁晶各项异性能很低,使得在赫斯勒合金/氧化物多层膜中获得PMA变得很困难,所以提高赫斯勒合金体系的磁各向异性成了其应用的关键。具有较高垂直磁各向异性和好的热稳定性的磁性材料是MRAM、磁传感器应用的基础,目前国际上还在不断地挖掘磁性薄膜的潜力,提高其磁性能和热稳定性等,以扩大其应用领域。
发明内容
本发明公开了一种可调控Co2FeX合金垂直磁各向异性的磁性薄膜材料及方法,以解决现有技术的上述技术问题以及其他潜在问题中的任意问题。
为了解决上述问题,本发明的技术方案是:可调控Co2FeX合金垂直磁各向异性的磁性薄膜材料,
本发明的技术方案是:一种可调控Co2FeX合金垂直磁各向异性的磁性薄膜材料,该磁性薄膜材料包括基底、缓冲层、Co2FeX(X为Al、Si、Mn的一种或者多种)/Zr/Co2FeX(X为Al、Si、Mn的一种或者多种)/MO(MO为金属氧化物如MgO、AlOx等)多层膜、保护层;
其中,所述缓冲层和保护层均由金属Ta或其它金属或者不同金属元素的复合层构成,其它金属可以为Pt、Pd、Mo、Cr等。
进一步,所述基底为硅片、玻璃片、MgO基底。本发明的另一目的是提供上述磁性薄膜材料的制备方法,该方法具体包括以下步骤:
步骤1:选取基底材料,进行清洗;
步骤2:采用共溅射方法将Ta或其它金属沉积在经步骤1处理后的基底材料上作为缓冲层,
步骤3:在所述缓冲层上沉积Co2FeX(X为Al、Si、Mn的一种或者多种)/Zr/Co2FeX(X为Al、Si、Mn的一种或者多种)/MO(MO为金属氧化物如MgO、AlOx)多层膜;
步骤4:采用磁控溅射方法将Ta或其它金属沉积在上述多层膜上作为保护层;
步骤5:将上述制备的(0.1~100.0m)Ta或其它金属/Co2FeX(X为Al、Si、Mn的一种或者多种)/Zr/Co2FeX(X为Al、Si、Mn的一种或者多种)/MO(MO为金属氧化物如MgO、AlOx)/(0.1~100.0nm)Ta或其它金属薄膜材料放入真空退火炉进行退火处理。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京科技大学,未经北京科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110255553.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 一种Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Yb<sub>2</sub>O<sub>3</sub>改性的La<sub>2</sub>Zr<sub>2</sub>O<sub>7</sub>-(Zr<sub>0.92</sub>Y<sub>0.08</sub>)O<sub>1.96</sub>复相热障涂层材料
- 无铅[(Na<sub>0.57</sub>K<sub>0.43</sub>)<sub>0.94</sub>Li<sub>0.06</sub>][(Nb<sub>0.94</sub>Sb<sub>0.06</sub>)<sub>0.95</sub>Ta<sub>0.05</sub>]O<sub>3</sub>纳米管及其制备方法
- 磁性材料HN(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>3</sub>·[Co<sub>4</sub>Na<sub>3</sub>(heb)<sub>6</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>6</sub>]及合成方法
- 磁性材料[Co<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(hmb)<sub>4</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub>]·(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub> 及合成方法
- 一种Bi<sub>0.90</sub>Er<sub>0.10</sub>Fe<sub>0.96</sub>Co<sub>0.02</sub>Mn<sub>0.02</sub>O<sub>3</sub>/Mn<sub>1-x</sub>Co<sub>x</sub>Fe<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 复合膜及其制备方法
- Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-TeO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>-WO<sub>3</sub>系玻璃
- 荧光材料[Cu<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(mtyp)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>COO)<sub>2</sub>(H<sub>2</sub>O)<sub>3</sub>]<sub>n</sub>及合成方法
- 一种(Y<sub>1</sub>-<sub>x</sub>Ln<sub>x</sub>)<sub>2</sub>(MoO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>薄膜的直接制备方法
- 荧光材料(CH<sub>2</sub>NH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>ZnI<sub>4</sub>
- Li<sub>1.2</sub>Ni<sub>0.13</sub>Co<sub>0.13</sub>Mn<sub>0.54</sub>O<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>复合材料的制备方法