[发明专利]可调控Co2有效

专利信息
申请号: 202110255553.1 申请日: 2021-03-09
公开(公告)号: CN113036034B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 李明华;陈宇;许铭扬;李阔;刘沛桥;张垚;于广华 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: H10N50/85 分类号: H10N50/85;H10N50/80;H10N50/01
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 朱艳华
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 调控 co base sub
【说明书】:

发明属于磁性薄膜领域,尤其涉及一种可调控Cosubgt;2/subgt;FeX合金垂直磁各向异性的磁性薄膜材料及方法:该磁性薄膜材料包括:基底、缓冲层、磁性层、氧化物层和保护层,磁性层的磁性材料为断裂式的Cosubgt;2/subgt;FeX/Zr/Cosubgt;2/subgt;FeX,Zr占磁性层的量比为0.001‑50%,X为Al、Si或Mn中的一种或者多种。本发明的有益效果是,该磁性薄膜材料是在以Ta或者其它金属做为缓冲层和保护层,在缓冲层上沉积Cosubgt;2/subgt;FeX/Zr/Cosubgt;2/subgt;FeX,再沉积金属氧化物层,利用对氧有较强亲和力的Zr来调控Cosubgt;2/subgt;FeX中Co、Fe氧化物的比例,改善薄膜中输运性能,同时提高薄膜的垂直磁各向异性,以满足磁性随机存储器和磁传感器的应用需求。

技术领域

本发明属于磁性薄膜领域,涉及一种可调控Co2FeX合金垂直磁各向异性的磁性薄膜材料及方法。

背景技术

赫斯勒合金具有高自旋极化率、低阻尼常数、高的居里温度,满足磁性随机存储器(MRAM)中低磁化翻转电流的需求,有望成为下一代高密度垂直磁记录器件MRAM的电极材料而广泛受到关注。但该合金由于磁晶各项异性能很低,使得在赫斯勒合金/氧化物多层膜中获得PMA变得很困难,所以提高赫斯勒合金体系的磁各向异性成了其应用的关键。具有较高垂直磁各向异性和好的热稳定性的磁性材料是MRAM、磁传感器应用的基础,目前国际上还在不断地挖掘磁性薄膜的潜力,提高其磁性能和热稳定性等,以扩大其应用领域。

发明内容

本发明公开了一种可调控Co2FeX合金垂直磁各向异性的磁性薄膜材料及方法,以解决现有技术的上述技术问题以及其他潜在问题中的任意问题。

为了解决上述问题,本发明的技术方案是:可调控Co2FeX合金垂直磁各向异性的磁性薄膜材料,

本发明的技术方案是:一种可调控Co2FeX合金垂直磁各向异性的磁性薄膜材料,该磁性薄膜材料包括基底、缓冲层、Co2FeX(X为Al、Si、Mn的一种或者多种)/Zr/Co2FeX(X为Al、Si、Mn的一种或者多种)/MO(MO为金属氧化物如MgO、AlOx等)多层膜、保护层;

其中,所述缓冲层和保护层均由金属Ta或其它金属或者不同金属元素的复合层构成,其它金属可以为Pt、Pd、Mo、Cr等。

进一步,所述基底为硅片、玻璃片、MgO基底。本发明的另一目的是提供上述磁性薄膜材料的制备方法,该方法具体包括以下步骤:

步骤1:选取基底材料,进行清洗;

步骤2:采用共溅射方法将Ta或其它金属沉积在经步骤1处理后的基底材料上作为缓冲层,

步骤3:在所述缓冲层上沉积Co2FeX(X为Al、Si、Mn的一种或者多种)/Zr/Co2FeX(X为Al、Si、Mn的一种或者多种)/MO(MO为金属氧化物如MgO、AlOx)多层膜;

步骤4:采用磁控溅射方法将Ta或其它金属沉积在上述多层膜上作为保护层;

步骤5:将上述制备的(0.1~100.0m)Ta或其它金属/Co2FeX(X为Al、Si、Mn的一种或者多种)/Zr/Co2FeX(X为Al、Si、Mn的一种或者多种)/MO(MO为金属氧化物如MgO、AlOx)/(0.1~100.0nm)Ta或其它金属薄膜材料放入真空退火炉进行退火处理。

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