[发明专利]栅极结构中氮化钛层厚度的确定方法、装置、设备与介质有效

专利信息
申请号: 202110255733.X 申请日: 2021-03-09
公开(公告)号: CN113053767B 公开(公告)日: 2022-09-06
发明(设计)人: 王健;毛宏坤;李承启;杨一鸣 申请(专利权)人: 普迪飞半导体技术(上海)有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 上海慧晗知识产权代理事务所(普通合伙) 31343 代理人: 李茂林;徐海晟
地址: 200433 上海市杨*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 栅极 结构 氮化 厚度 确定 方法 装置 设备 介质
【权利要求书】:

1.一种栅极结构中氮化钛层厚度的确定方法,其特征在于,包括:

获取N个栅极结构的栅极电阻信息,每个栅极结构均包括至少一层氮化钛层,每个栅极结构中,至少有一层氮化钛层与其他栅极结构的氮化钛层是同类的,针对于任意两个栅极结构,至少有一层氮化钛层是不同类的,同类的氮化钛层所形成的电阻、厚度是相同的;其中的N为大于或等于2的整数;

根据所述N个栅极结构的栅极电阻信息,确定所述N个栅极结构中至少部分氮化钛层的厚度,其中具体包括:根据所述N个栅极结构的栅极电阻信息、所述栅极结构中材料的电阻率、以及所述栅极结构的尺寸信息,确定所述N个栅极结构中至少部分氮化钛层的厚度;

同类的氮化钛层是采用相同工艺同步制作而成的,不同类的氮化钛层是采用不同工艺和/或在不同时间制作而成的;

所述N个栅极结构包括以下至少之二:

第一栅极结构,包括第一氮化钛层与第二氮化钛层;

第二栅极结构,包括第三氮化钛层与第四氮化钛层;

第三栅极结构,包括第五氮化钛层;

第四栅极结构,包括第六氮化钛层;

其中,所述第一氮化钛层、所述第四氮化钛层、所述第六氮化钛层是同类的,所述第二氮化钛层、所述第五氮化钛层是同类的;

所述栅极结构中氮化钛层的数量为一层或两层,所述N个栅极结构中氮化钛层的种类数量为M,且N≥M*(M-1)/2。

2.根据权利要求1所述的确定方法,其特征在于,所述栅极结构还包括钨层,所述至少一层氮化钛层设于所述钨层外。

3.根据权利要求1所述的确定方法,其特征在于,所述至少部分氮化钛层为所述N个栅极结构的所有氮化钛层。

4.根据权利要求1所述的确定方法,其特征在于,所述N个栅极结构的尺寸是相同的,各氮化钛层的电阻率是相同的。

5.根据权利要求1所述的确定方法,其特征在于,所述第三氮化钛层的厚度是根据以下公式确定的:

所述第二氮化钛层与所述第五氮化钛层的厚度是根据以下公式确定的:

所述第一氮化钛层、所述第四氮化钛层与所述第六氮化钛层的厚度是根据以下公式确定的:

其中:

R1表征了所述第一栅极结构的栅极电阻信息;

R2表征了所述第二栅极结构的栅极电阻信息;

R3表征了所述第三栅极结构的栅极电阻信息;

R4表征了所述第四栅极结构的栅极电阻信息;

CD表征了所述栅极结构的长度;

H表征了所述栅极结构的高度;

L表征了所述栅极结构的宽度;

表征了所述栅极结构中钨层的电阻率;

表征了所述栅极结构中氮化钛层的电阻率。

6.一种栅极结构中氮化钛层厚度的确定装置,其特征在于,包括:

获取模块,用于获取N个栅极结构的栅极电阻信息,每个栅极结构均包括至少一层氮化钛层,每个栅极结构中,至少有一层氮化钛层与其他栅极结构的氮化钛层是同类的,针对于任意两个栅极结构,至少有一层氮化钛层是不同类的,同类的氮化钛层所形成的电阻是相同的;其中的N为大于或等于2的整数;

厚度确定模块,用于根据所述N个栅极结构的栅极电阻信息,确定所述N个栅极结构中至少部分氮化钛层的厚度,其中具体包括:根据所述N个栅极结构的栅极电阻信息、所述栅极结构中材料的电阻率、以及所述栅极结构的尺寸信息,确定所述N个栅极结构中至少部分氮化钛层的厚度;

同类的氮化钛层是采用相同工艺同步制作而成的,不同类的氮化钛层是采用不同工艺和/或在不同时间制作而成的;

所述N个栅极结构包括以下至少之二:

第一栅极结构,包括第一氮化钛层与第二氮化钛层;

第二栅极结构,包括第三氮化钛层与第四氮化钛层;

第三栅极结构,包括第五氮化钛层;

第四栅极结构,包括第六氮化钛层;

其中,所述第一氮化钛层、所述第四氮化钛层、所述第六氮化钛层是同类的,所述第二氮化钛层、所述第五氮化钛层是同类的;

所述栅极结构中氮化钛层的数量为一层或两层,所述N个栅极结构中氮化钛层的种类数量为M,且N≥M*(M-1)/2。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于普迪飞半导体技术(上海)有限公司,未经普迪飞半导体技术(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110255733.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top