[发明专利]一种半导体废气处理装置及处理方法

说明书

本发明提供一种半导体废气处理装置及处理方法，半导体废气处理装置包括废气处理装置、可燃气体输送管线、氧气输送管线和制程废气输送管线，可燃气体输送管线与燃烧器连通，可燃气体输送管线上设置有第一质量流量控制器；氧气输送管线与燃烧器连通，氧气输送管线设置有第二质量流量控制器；制程废气输送管线与废气处理装置的进气口连通，制程废气输送管线设置有第一气体分析仪。通过第一气体分析仪分析制程废气的成分，并根据流量和初始温度计算处理制程废气所需可燃气体和氧气的使用量，通过第一质量流量控制器和第二质量流量控制器分别精准控制可燃气体和氧气的流量，确保制程废气充分燃烧，提高废气处理装置的处理效率。

技术领域

本发明涉及废气处理技术领域，尤其涉及一种半导体废气处理装 置及处理方法。

背景技术

在半导体制造、液晶面板制造、LED、太阳能等行业生产原物料 中，含有多种易燃易爆、有毒有害等气体，对环境或人体皆具有一定 的危害性，必须防止其直接排放大气中。因此一般产线都会加装大型 中央废气处理系统。但此系统仅以水洗涤废气，故其应用范围仅限于 处理水溶性气体，无法适应日新月异且分工细微的产线工业废气。而 且由于工作区域远离中央废气处理系统，常因气体特性导致管路堵塞 或腐蚀，以致气体泄漏，甚至引起爆炸。因此必须依据各工艺所衍生 出的气体特性种类，配置适合工艺气体特性的小型废气处理装置，才 能有效解决废气问题，以减少在工作区域滞留的废气，确保人员、产 线和环境安全。

现有的废气处理装置大多数为定量燃烧，或者需要接收外部信号 去切换燃烧模式。燃烧模式单一，如果制程废气的种类总是发生变化， 不能及时切换，会影响处理效率。

发明内容

本发明提供一种半导体废气处理装置及处理方法，用以解决现有 技术中废气处理装置存在燃烧模式单一和废气处理效率低的问题。

本发明提供一种半导体废气处理装置，包括：

废气处理装置，内部形成有燃烧腔，所述废气处理装置设置有与 所述燃烧腔连通的燃烧器；

可燃气体输送管线，与所述燃烧器连通，所述可燃气体输送管线 上设置有第一质量流量控制器；

氧气输送管线，与所述燃烧器连通，所述氧气输送管线设置有第 二质量流量控制器；

制程废气输送管线，与所述废气处理装置的进气口连通，所述制 程废气输送管线设置有第一气体分析仪。

根据本发明提供一种的半导体废气处理装置，所述废气处理装置 的出气口设置有第二气体分析仪。

根据本发明提供一种的半导体废气处理装置，所述可燃气体输送 管线还设置有第一减压阀，所述氧气输送管线还设置有第二减压阀。

根据本发明提供一种的半导体废气处理装置，所述可燃气体输送 管线还设置有第一电磁阀和第二电磁阀，所述第一电磁阀与所述第二 电磁阀位于所述第一减压阀与所述第一质量流量控制器之间；所述氧 气输送管线还设置有第三电磁阀，所述第三电磁阀位于所述第二减压 阀与所述第二质量流量控制器之间。

根据本发明提供一种的半导体废气处理装置，所述可燃气体输送 管线还设置有第一手阀，所述第一手阀位于所述第一减压阀背离所述 第一电磁阀的一侧；所述氧气输送管线还设置有第二手阀，所述第二 手阀位于所述第二减压阀背离所述第三电磁阀的一侧。

根据本发明提供一种的半导体废气处理装置，所述制程废气输送 管线还设置有三通阀，所述三通阀与排气管连通。

根据本发明提供一种的半导体废气处理装置，所述制程废气输送 管线还设置有气体流量计。

根据本发明提供一种的半导体废气处理装置，所述制程废气输送 管线还设置有温度传感器。

本发明还提供一种半导体废气处理方法，包括以下步骤：