[发明专利]局部电镀装置在审

专利信息
申请号: 202110259094.4 申请日: 2021-03-10
公开(公告)号: CN113493921A 公开(公告)日: 2021-10-12
发明(设计)人: 立石圭一郎 申请(专利权)人: 欧姆龙株式会社
主分类号: C25D5/02 分类号: C25D5/02;C25D5/08;C25D17/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张劲松
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 局部 电镀 装置
【权利要求书】:

1.一种局部电镀装置,仅对被镀物的一部分部位实施电镀,其特征在于,具有:

电解液循环部,其在内部具有电解液循环路径;

被镀物输送部,其输送所述被镀物,

所述电解液循环路径在其一部分具有向所述电解液循环部的外部开放的狭缝状的窗口部,

所述被镀物输送部能够一边使所述被镀物的一面的电镀区域与所述窗口部相对,一边沿所述窗口部输送所述被镀物。

2.如权利要求1所述的局部电镀装置,其特征在于,

所述电解液循环路径在其一部分具有圆弧状部位,

所述窗口部设置在所述电解液循环路径的所述圆弧状部位的外周侧。

3.如权利要求1所述的局部电镀装置,其特征在于,

在所述电解液循环路径的所述窗口部的下游侧,具有产生电解液的吸引力的电解液吸引部。

4.如权利要求1~3中任一项所述的局部电镀装置,其特征在于,

所述电解液循环部在所述窗口部的电解液流动方向的上游侧的边缘,与所述电解液循环路相连一侧的面上的角部以具有圆角的方式形成。

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