[发明专利]一种电子显示屏精抛用抛光粉及其生产方法

说明书

本发明公开了一种电子显示屏精抛用抛光粉，包括以下重量百分比原料：改性氧化铈50‑80％、润滑颗粒10％、氧化钐10％‑40％；该电子显示屏精抛用抛光粉由以下步骤制成：将改性氧化铈、润滑颗粒、氧化钐加入搅拌罐中混合均匀，然后进行粉碎和分级，控制粒度D₅₀：0.5‑5μm，D₁₀₀：2‑25μm，即得一种电子显示屏精抛用抛光粉；改性氧化铈具有双亲性能，能够在水溶液或者有机溶剂具有较好的相容性和悬浮液，将该抛光粉制备成抛光液具有较高的稳定性，润滑颗粒具有良好的承载外力能力，可极大地减少实际的相对摩擦面积，达到耐磨减损的目的，在较小的添加量下提高抛光质量，在抛光过程中能够防止抛光粉对抛光材料的过度抛光，提高抛光精度。

技术领域

本发明属于抛光粉制备技术领域，具体地，涉及一种电子显示屏精抛用抛光粉及其生产方法。

背景技术

电子显示屏是一种通过控制半导体发光二极管的显示方式，是由几万-几十万个半导体发光二极管像素点均匀排列组成，它利用不同的材料可以制造不同色彩的LED像素点，以显示文字、图形、图像、动画、行情、视频、录像等各种信息的显示屏幕，随着社会进步和高精尖技术的飞速发展，电子产品表面质量要求的不断提高，表面平坦化技术也在不断发展，如最初半导体基片大多采用机械抛平的平整方法，但得到的表面损伤极其严重，各种沉淀技术也曾在集成电路工艺中获得应用，但均属于局部平面化技术，其平坦化能力从几微米到几十微米不等，不能满足尺寸微小的全局平化要求。

目前，多使用抛光粉对电子显示屏进行精细抛光，但是目前生产的研磨抛光粉大部分品质不高，且在生产过程中常常会用强酸、强碱对所述研磨粉进行酸、碱处理，处理后的酸、碱废液对环境和操作人员产生较大的损害，且强酸、强碱运输和存储具有一定危险，经过酸、碱处理后制备的所述抛光粉在使用过程中会出现严重的团聚现象，在研磨过程中会划伤元器件，使加工成品率降低，另一方面，较高档次的稀土研磨抛光粉价格昂贵，增加了电子显示屏抛光成本。

发明内容

本发明的目的在于提供一种电子显示屏精抛用抛光粉及其生产方法。

本发明需要解决的技术问题为：

现有技术中，生产的研磨抛光粉大部分品质不高，且在生产过程中常常会用强酸、强碱对所述研磨粉进行酸、碱处理，处理后的酸、碱废液对环境和操作人员产生较大的损害，且强酸、强碱运输和存储具有一定危险，经过酸、碱处理后制备的所述抛光粉在使用过程中会出现严重的团聚现象，在研磨过程中会划伤元器件，使加工成品率降低。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现：

一种电子显示屏精抛用抛光粉，包括以下重量百分比原料：改性氧化铈50-80％、润滑颗粒10％、氧化钐10％-40％；

该电子显示屏精抛用抛光粉由以下步骤制成：

将改性氧化铈、润滑颗粒、氧化钐加入搅拌罐中混合均匀，然后进行粉碎和分级，控制粒度D₅₀：0.5-5μm，D₁₀₀：2-25μm，即得一种电子显示屏精抛用抛光粉。

进一步地，所述改性氧化铈由以下步骤制成：

步骤A1、将碳酸镧铈和去离子水按照质量比1：1加入烧杯中，频率20-40kHz条件下超声分散20min后，向烧瓶中滴加浓盐酸调节体系pH值为3.5，滴加结束后，磁力搅拌15-20min后过滤，滤饼用去离子水洗涤至洗涤液呈中性，然后将滤饼置于饱和碳酸氢钠溶液中，于50℃恒温水浴条件下陈化2h后，用去离子水洗涤过滤三次，最后于220℃的出风温度下喷雾干燥，得到纯化碳酸镧铈；