[发明专利]一种提高超导闭合线圈励磁效率的装置有效

专利信息
申请号: 202110262720.5 申请日: 2021-03-10
公开(公告)号: CN113035487B 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 黄振 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: H01F6/06 分类号: H01F6/06;H01F6/00;H01L39/16
代理公司: 上海震亚律师事务所 31403 代理人: 李秀兰
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 超导 闭合 线圈 效率 装置
【权利要求书】:

1.一种提高超导闭合线圈励磁效率的装置,其特征在于,所述装置包括一段与励磁超导线圈相连的超导带材,所述超导带材包括第一导电层、超导层和基底,所述超导带材以所述第一导电层为表面,以下依次为所述超导层和所述基底,所述超导带材的侧面具有第二导电层,所述第一导电层和第二导电层被配置为具有阻隔电流通过的图样结构;所述图样结构在所述导电层内呈一个或多个几何形状,在所述第一导电层和第二导电层的截面上呈槽形;所述第一导电层的所述几何形状的槽形深度不及所述第一导电层的厚度或者与所述第一导电层的厚度相同或者超过所述第一导电层的厚度但不及所述第一导电层与所述超导层的厚度之和;所述第二导电层的所述几何形状的槽形深度不及所述第二导电层的厚度或者与所述第二导电层的厚度相同或者超过所述第二导电层的厚度;位于所述第一导电层的所述几何形状的首和尾与位于所述第二导电层的所述几何形状相衔接。

2.如权利要求1所述的提高超导闭合线圈励磁效率的装置,其特征在于,单个所述几何形状包括垂直线、斜直线、曲线。

3.如权利要求1所述的提高超导闭合线圈励磁效率的装置,其特征在于,所述图样结构的长度与所述导电层的宽度相同或超过。

4.如权利要求1所述的提高超导闭合线圈励磁效率的装置,其特征在于,制作所述图样结构的方法为刻蚀、激光烧蚀、化学腐蚀或机械加工中一种或几种。

5.如权利要求4所述的提高超导闭合线圈励磁效率的装置,其特征在于,所述刻蚀为湿法刻蚀或干法刻蚀。

6.如权利要求1所述的提高超导闭合线圈励磁效率的装置,其特征在于,所述超导带材绕制成线圈形式。

7.如权利要求1所述的提高超导闭合线圈励磁效率的装置,其特征在于,所述导电层的材料包括铜和/或银和/或不锈钢和/或其合金。

8.如权利要求1所述的提高超导闭合线圈励磁效率的装置,其特征在于,所述基底也被配置为具有阻隔电流通过的所述图样结构。

9.如权利要求1所述的提高超导闭合线圈励磁效率的装置,其特征在于,所述导电层为单层和/或多层。

10.如权利要求1所述的提高超导闭合线圈励磁效率的装置,其特征在于,所述超导层的材料为REBCO或铁基超导体。

11.如权利要求1所述的提高超导闭合线圈励磁效率的装置,其特征在于,所述装置还包括缓冲层,所述缓冲层在所述超导层和所述基底之间。

12.如权利要求1所述的提高超导闭合线圈励磁效率的装置,其特征在于,所述装置通过外接电源和/或磁通泵对所述超导闭合 线圈励磁。

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