[发明专利]一种用于OLED掩膜版及坩埚清洗的组合物

权利要求书

1.一种用于OLED掩膜版及坩埚清洗的组合物，其特征在于：按质量百分数之和为100%计，所述组合物中各组分及其含量为：无机强碱性物质5-20%，有机碱0.5-15%，有机助剂0.1-50%，螯合剂0.1-10%，PEG-Gemini型非离子表面活性剂0.01-10%，余量为水；

所述PEG-Gemini型非离子表面活性剂的化学结构式如下：

，其中m为5-13之间的整数，n为2-6之间的整数，R独立选自氢原子、饱和烷基、芳基、酯基、酰基、烷氧基中的任意一种；所述无机强碱性物质为氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锶、氢氧化钙、氢氧化钡、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾中的至少一种；所述有机碱为链烷醇胺，其具体包括：单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、单异丙醇胺、2-氨基乙醇、2-(乙基氨基)乙醇、2-（二甲基氨基）乙醇、N-甲基二乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙氨基乙醇、2-(2-氨基乙基胺)乙醇、1-氨基-2-丙醇、2-氨基-1-丙醇、3-氨基-1-丙醇、4-氨基-1-丁醇、二丁醇胺中的任意一种或多种；所述有机助剂为乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、乙二醇、丙二醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚中的任意一种或多种；所述螯合剂为乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、柠檬酸、柠檬酸钠、葡萄糖、葡萄糖酸钠中的任意一种或多种。

2.根据权利要求1所述的用于OLED掩膜版及坩埚清洗的组合物，其特征在于：所述PEG-Gemini型非离子表面活性剂的制备步骤如下：

1）将不饱和酸、二元醇和对甲苯磺酸按摩尔比1:1.2:1混合，在以甲苯为溶剂的条件下加热回流反应3h后，将体系蒸馏至恒重，得产物A；

其中，所述不饱和酸的结构式为：，所述二元醇的结构式为：，所得产物A的结构式为：，m为5-13之间的整数，n为2-6之间的整数；

2）按摩尔比1:1.2在步骤1）所得产物A中滴加间氯过氧苯甲酸，然后将体系温度维持在5-15℃，反应72h，反应结束后，体系经过重结晶或柱色谱进行纯化，得产物B，其结构式为：

；

3）将步骤2）所得产物B与聚乙二醇、三氟化硼乙醚按摩尔比1:1.5:1混合，80℃反应5h，得所述PEG-Gemini型非离子表面活性剂。

3.根据权利要求1所述的用于OLED掩膜版及坩埚清洗的组合物，其特征在于：所述水为去离子水。

4.根据权利要求1所述的用于OLED掩膜版及坩埚清洗的组合物，其特征在于：所述组合物的制备方法为：往水中先添加无机强碱性物质、有机碱，然后添加有机助剂，再加入PEG-Gemini型非离子表面活性剂，在200rpm的搅拌速度下使其形成均一体系，再一边搅拌一边加入螯合剂，以最终得到均一稳定澄清透明的溶液。