[发明专利]光罩、显示面板在审
申请号: | 202110262879.7 | 申请日: | 2021-03-11 |
公开(公告)号: | CN112859507A | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | 练文东 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 远明 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 | ||
1.一种光罩,其特征在于,包括第一开口以及围绕所述第一开口的掩膜条;
所述掩膜条包括靠近所述第一开口的第一部分和远离所述第一开口的第二部分;
其中,所述第二部分的所述平均厚度大于所述第一部分的平均厚度,所述第一部分和所述第二部分围成连通所述第一开口的总空间,所述总空间包括第一空间和位于所述第一空间上并连通所述第一空间的第二空间,所述第一部分包括围绕所述第一空间的第一壁,所述第二部分包括围绕所述第二空间的第二壁,所述第一壁与所述第二壁具有接触部,所述第二壁在所述接触部处与水平面的夹角小于所述第一壁在所述接触部处与所述水平面的夹角。
2.根据权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述掩膜条包括连接于所述第二部分的远离所述第一部分的一侧的第三部分,所述第三部分的平均厚度大于所述第二部分的平均厚度,所述第三部分包括围绕所述第一空间的第三壁,所述第二壁在所述接触部处与所述水平面的所述夹角以及所述第一壁在所述接触部处与所述水平面的所述夹角均为锐角。
3.根据权利要求2所述的光罩,其特征在于,所述第一壁为凹向所述掩膜条的弧面,所述第二壁为平面,所述第三壁为平面。
4.根据权利要求3所述的光罩,其特征在于,在所述第三部分至所述第一开口的方向上,所述第二部分的厚度变小。
5.根据权利要求2所述的光罩,其特征在于,所述第一壁为凹向所述掩膜条的弧面,所述第二壁为凹向所述掩膜条的弧面,所述第三壁为平面。
6.根据权利要求2所述的光罩,其特征在于,所述光罩还包括连接于所述第二部分与所述第三部分的第四部分,所述第四部分的平均厚度大于所述第二部分的平均厚度,所述第四部分的所述平均厚度小于所述第三部分的平均厚度。
7.根据权利要求6所述的光罩,其特征在于,所述第四部分的遮挡表面为平面,或者所述第四部分的遮挡表面为凹向所述掩膜条的弧面。
8.根据权利要求2所述的光罩,其特征在于,在所述第一开口至所述第三部分的方向上,所述第二部分的宽度大于所述第一部分的宽度。
9.根据权利要求2所述的光罩,其特征在于,所述第三部分的平均厚度为100毫米~250毫米,所述第二部分的平均厚度为所述第三部分的平均厚度的二分之一。
10.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括由权利要求1~9中任一项所述的光罩制作而成的膜层。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备