[发明专利]连续电镀装置

说明书

本申请涉及电镀设备技术领域，尤其是涉及一种连续电镀装置，其包括工作台，工作台上设有电镀槽机构，电镀槽机构内设有阳极电极，电镀槽机构沿电镀槽机构送料方向且位于电镀槽机构内部的两端依次设有前夹紧机构和后夹紧机构，所述后夹紧机构上设有导电组件，所述前夹紧机构和后夹紧机构之间设有导向机构，所述工作台沿电镀槽机构送料方向且位于电镀槽机构外部的一端设有牵引机构。本申请具有以下效果：导向机构能够对基材进行导向，以使得基材不易产生飘动，从而以减小对电镀的影响，提高电镀的质量。

技术领域

本申请涉及电镀设备技术领域，尤其是涉及一种连续电镀装置。

背景技术

电镀是一种表面加工工艺，是通过改变零件表面的外观和物理化学性质，达到装饰性、导电性、耐蚀性和耐磨性等各种技术性能。连续电镀工艺中采用的基材通常呈带状，且其生产过程中，基材是连续不断地从电镀装置内通过的，因此该电镀方式被称为“连续电镀”。

自动化生产系统中，由于连续电镀的基材具有薄、轻、软的特点，因此基材的上料和下料均较为困难。针对该问题，相关技术中通常采用夹紧机构对基材进行夹持的方式来解决。为了减小电镀时工件之间的相互干扰，参照图1，基材9通常包括固定带91以及等间距固定在固定带91上的工件92。夹紧机构对固定带91进行夹持即可实现工件92的上料和下料。

针对上述中的相关技术，发明人认为虽然基材被夹持着进行输送，但是基材上被夹持段的中部仍会向沿基材的厚度方向产生飘动，影响电镀电流的均匀性分布，同时还会触碰到槽内其它部件，造成工件表面擦花、变形、褶皱、甚至报废。

发明内容

为了使得基材在输送时不易产生飘动，以减小对工件电镀时造成的影响，本申请提供一种连续电镀装置。

本申请提供的一种连续电镀装置采用如下的技术方案：

一种连续电镀装置，包括工作台，所述工作台上设有电镀槽机构，所述电镀槽机构内设有阳极电极，所述电镀槽机构沿电镀槽机构送料方向且位于电镀槽机构内部的两端依次设有前夹紧机构和后夹紧机构，所述后夹紧机构上设有导电组件，所述前夹紧机构和后夹紧机构之间设有导向机构，所述工作台沿电镀槽机构送料方向且位于电镀槽机构外部的一端设有牵引机构。

通过采用上述技术方案，基材在牵引机构的带动下能够沿电解槽机构的送料方向进行移动，导电组件将电流传递至基材的工件上，使工件形成阴极电极，此时配合电解槽内的阳极电极即可使得电镀液中的镀层阳离子被电镀至工件的表面，导向机构能够对基材进行导向，以使得基材不易产生飘动，从而以减小对电镀的影响，提高电镀的质量。

可选的，所述导向机构包括固定在电镀槽机构槽底的固定支架以及设在固定支架上的引导组件，所述引导组件包括转动设置在固定支架上的引导盘，所述引导盘的侧壁上设有引导槽，所述引导槽的开口方向为电镀槽机构的送料方向。

通过采用上述技术方案，送料时将基材卡接在引导槽内，基材沿电解槽机构的送料方向进行移动时，能够带动引导盘一起转动，此时引导槽能够对基材的运动轨迹进行引导和限位，从而达到使得基材不易产生飘动的目的。

可选的，所述引导组件还包括通过锁止件固定支架上的基座，所述引导盘沿引导盘的轴向设有插销，且引导盘转动设置在插销上，所述插销固定在基座上。

通过采用上述技术方案，使得基座在固定支架上的位置可调，从而使得引导组件能够在不同的位置对基材进行导向，且引导组件的数量也能够实现可调；插销则用于达到使引导盘转动设置在固定支架上的目的。

可选的，所述基座远离固定支架一端的中部设有调节滑块，所述调节滑块与基座滑移连接，所述插销穿设在调节滑块上，所述基座靠近引导盘的一端设有龙门架，所述调节滑块设有滑移在龙门架内的调节部，所述龙门架沿调节部和调节滑块的滑移方向设有调节螺栓，所述调节螺栓依次与龙门架和调节部螺纹连接，且调节螺栓与基座转动连接。