[发明专利]针对浅层有机污染场地的水平井注射修复方法和装置

权利要求书

1.一种针对浅层有机污染场地的水平井注射修复方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1：在污染区域开挖沟槽，并埋入预制的水平井，水平井长度方向设置若干个无筛孔的竖直管，竖直管的底端与水平井密封连接；

步骤2：向竖直管内交替注入过氧化氢溶液和过硫酸钠溶液的混合溶液以及氢氧化钠溶液和过硫酸钠溶液的混合溶液。

2.根据权利要求1所述的一种针对浅层有机污染场地的水平井注射修复方法，其特征在于，沿污染区域的长度方向开挖用于埋入水平井的沟槽，挖掘长度为污染区域的水平长度，挖掘宽度大于水平井直径。

3.根据权利要求1所述的一种针对浅层有机污染场地的水平井注射修复方法，其特征在于，污染区域污染深度小于3m或土质单一时，开挖单层沟槽；污染区域污染深度大于3m小于6m或土质有分层时，开挖两层沟槽。

4.根据权利要求3所述的一种针对浅层有机污染场地的水平井注射修复方法，其特征在于，污染区域污染深度小于3m或土质单一时，单层沟槽的深度为0.5m；污染区域污染深度大于3m小于6m或土质有分层时，第一层沟槽的深度为0.5m，第二层沟槽深度为2.5m，两层沟槽水平距离1m。

5.根据权利要求1所述的一种针对浅层有机污染场地的水平井注射修复方法，其特征在于，步骤2中，首先注射过氧化氢溶液和过硫酸钠溶液的混合溶液，其中过硫酸钠溶液浓度为25％，过氧化氢溶液浓度为20％；反应1～2天后，注射氢氧化钠溶液及和过硫酸钠溶液的混合溶液，氢氧化钠溶液浓度为30％，过硫酸钠溶液浓度为25％；两种混合溶液交替注射，整个过程中，过硫酸钠、过氧化氢与氢氧化钠的质量比为14:1:3.5。

6.根据权利要求1所述的一种针对浅层有机污染场地的水平井注射修复方法，其特征在于，步骤2中，向竖直管内注射混合溶液的注射压力为0.5～1MPa，注射流量为15～20L/min。

7.根据权利要求1所述的一种针对浅层有机污染场地的水平井注射修复方法，其特征在于，所述水平井由内到外依次为PVC筛管、PVC滤网、不锈钢筛网、不锈钢绕丝筛管。

8.根据权利要求7所述的一种针对浅层有机污染场地的水平井注射修复方法，其特征在于，所述PVC筛管开筛部分采用圆形筛孔，规格为6×8mm，筛孔间距为15cm。

9.根据权利要求1所述的一种针对浅层有机污染场地的水平井注射修复方法，其特征在于，所述水平井在沟槽内以30m为一个安装单元，每个单元端部及中间15m位置处与竖直管相连，其中端部采用直角二通将水平井与竖直管连接，中间部位采用三通将水平井与竖直井连接。

10.根据权利要求1所述的一种针对浅层有机污染场地的水平井注射修复方法，其特征在于，所述竖直管材质为PVC，安装高度高出地面0.3m。