[发明专利]半导体基板及显示装置在审

专利信息
申请号: 202110266145.6 申请日: 2021-03-11
公开(公告)号: CN113495387A 公开(公告)日: 2021-10-12
发明(设计)人: 小出元;池田匡孝 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/133;G02F1/167;H01L27/12;G02F1/1685
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 吕文卓
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 显示装置
【说明书】:

半导体基板在第1基材上具备第1绝缘层、扫描线、第2绝缘层、至少设于第2绝缘层的第1凹状槽部、和具有与第1凹状槽部重叠的第1区域及不重叠的第2区域的信号线,信号线是具有第1层及第2层的层叠体,第1区域的第1层的第1端部在与第1基材的平面平行的方向上从第2层的侧面突出,第1区域的第1层在第2层的侧面与第1端部之间具有第1部分,第1部分与第1凹状槽部的侧面相接,第2层的侧面在第1凹状槽部中被第1部分覆盖。

本申请基于2020年3月18日提出的日本专利申请第2020-048059号主张优先权,这里引用其全部内容。

技术领域

本发明涉及半导体基板及显示装置。

背景技术

作为显示装置,例如有在本实施方式中说明的液晶显示装置、电泳装置、OLED显示装置、微LED显示装置等。

作为半导体基板,例如有上述的显示装置的具有半导体的基板、光学传感器基板等使用了半导体的基板等。

关于半导体基板及显示装置,已知具备薄膜晶体管的有源矩阵方式的结构。

发明内容

本发明的目的在于,提供能够提高显示品质的半导体基板及显示装置。

一技术方案的半导体基板具备:第1基材;第1绝缘层,设在上述第1基材上;扫描线,设在上述第1绝缘层上;第2绝缘层,设在上述第1绝缘层及上述扫描线上;第1凹状槽部,至少设于上述第2绝缘层;以及信号线,具有与上述第1凹状槽部重叠的第1区域及不与上述第1凹状槽部重叠的第2区域;上述信号线的上述第2区域设在上述第2绝缘层上;上述信号线是具有第1层及层叠于上述第1层的第2层的层叠体;上述第1区域的上述第1层的第1端部在与上述第1基材的平面平行的方向上从上述第2层的侧面突出;上述第1区域的上述第1层在上述第2层的上述侧面与上述第1端部之间具有第1部分;上述第1部分与上述第1凹状槽部的侧面相接,上述第2层的上述侧面在上述第1凹状槽部中被上述第1部分覆盖。

此外,一技术方案的半导体基板具备:第1基材;第1绝缘层,设在上述第1基材上;扫描线,设在上述第1绝缘层上;第2绝缘层,设在上述第1绝缘层及上述扫描线上;第1凹状槽部,至少设于上述第2绝缘层;信号线,具有与上述第1凹状槽部重叠的第1区域及不与上述第1凹状槽部重叠的第2区域;以及有机绝缘层,将上述信号线覆盖;上述信号线的上述第2区域设在上述第2绝缘层上;上述信号线是具有第2层及层叠于上述第2层的第3层的层叠体;上述第1区域的上述第3层具有在与上述第1基材的平面平行的方向上从上述第2层的侧面突出的第2端部;上述第1区域的上述第3层在上述第2层的上述侧面与上述第2端部之间具有第2部分;在上述第1区域的上述第2层的上述侧面及上述第1凹状槽部的侧面之间、以及上述第1基材及上述第2部分之间,填充有上述有机绝缘层。

此外,一技术方案的半导体基板具备:第1基材;第1绝缘层,设在上述第1基材上;扫描线,设在上述第1绝缘层上;第2绝缘层,设在上述第1绝缘层及上述扫描线上;第1凹状槽部,至少设于上述第2绝缘层;以及信号线,具有与上述第1凹状槽部重叠的第1区域及不与上述第1凹状槽部重叠的第2区域;上述信号线的上述第2区域设在上述第2绝缘层上;上述信号线是具有第1层及层叠于上述第1层的第2层的层叠体;上述第1区域的上述第1层的第1端部在与上述第1基材的平面平行的方向上从上述第2层的侧面突出;上述第1区域的上述第1层在上述第2层的上述侧面与上述第1端部之间具有第1部分,上述第1端部位于比上述第1凹状槽部的侧面靠内侧。

通过本实施方式,能够提供能提高显示品质的半导体基板及显示装置。

附图说明

图1A是表示本实施方式的显示装置DSP的电路图。

图1B是表示本实施方式的显示装置DSP的电路图。

图2是示意地表示像素PX的结构的平面图。

图3是沿着图2的线A-A的第1基板SUB1的剖视图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日本显示器,未经株式会社日本显示器许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110266145.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top