[发明专利]一种导模共振波导光栅可见光变色的镜片及其制备方法在审
申请号: | 202110268503.7 | 申请日: | 2021-03-12 |
公开(公告)号: | CN113126324A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 吴建斌;吴建选;陈建发 | 申请(专利权)人: | 艾普偏光科技(厦门)有限公司 |
主分类号: | G02C7/02 | 分类号: | G02C7/02;G02C7/10;G02B5/28 |
代理公司: | 北京金蓄专利代理有限公司 11544 | 代理人: | 赵敏 |
地址: | 361028 福建省厦门市海沧区后祥*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 共振 波导 光栅 可见光 变色 镜片 及其 制备 方法 | ||
1.一种导模共振波导光栅可见光变色的镜片,其特征在于,包括:
镜片基片、平面光波导薄膜膜层以及光栅层;所述平面光波导薄膜膜层以及光栅层彼此叠放且形成于所述镜片基片的一侧;
其中,所述光栅层形成有纳米尺度的导模共振波导光栅,所述导模共振波导光栅两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长;所述导模共振波导光栅用于使以目标入射角入射的具有目标波长的光波被衍射至所述平面光波导薄膜膜层,所述平面光波导薄膜膜层用于使进入其内部的所有光波发生相消干涉以便以目标反射传输效率将所述具有目标波长的光波进行滤光反射。
2.根据权利要求1所述的导模共振波导光栅可见光变色的镜片,其特征在于,所述光栅层为二氧化硅膜层。
3.根据权利要求2所述的导模共振波导光栅可见光变色的镜片,其特征在于,所述导模共振波导光栅的光栅脊底部宽度为0.2~0.3微米、光栅槽槽深为0.1~0.3微米、光栅槽形底角为80~88°、光栅周期为0.5~1微米、光栅脊底部占空比为0.2~0.6、刻线密度为200line/mm~1000line/mm。
4.根据权利要求3所述的导模共振波导光栅可见光变色的镜片,其特征在于,所述导模共振波导光栅为采用指定工作波长的准分子激光通过相位掩模板,使激光经过相位掩模板后衍射到所述二氧化硅膜层上形成干涉条纹形成周期为掩膜板周期一半的光栅。
5.根据权利要求2所述的导模共振波导光栅可见光变色的镜片,其特征在于,所述光栅层的厚度为100~200纳米。
6.根据权利要求1所述的导模共振波导光栅可见光变色的镜片,其特征在于,所述平面光波导薄膜膜层为氧化锌膜层。
7.根据权利要求6所述的导模共振波导光栅可见光变色的镜片,其特征在于,所述平面光波导薄膜膜层的厚度为140~150纳米。
8.根据权利要求1所述的导模共振波导光栅可见光变色的镜片,其特征在于,所述目标入射角入射包括15.8~75.0°。
9.根据权利要求8所述的导模共振波导光栅可见光变色的镜片,其特征在于,所述目标波长的光波包括400~700纳米的可见光波。
10.一种权利要求1至9任意一项所述的导模共振波导光栅可见光变色的镜片的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
在眼镜镜片基片上采用离子辅助轰击沉积电子束蒸镀技术沉积形成二氧化硅打底层;
在所述二氧化硅打底层上采用电子束蒸镀沉积厚度为140~150纳米的氧化锌形成所述平面光波导膜层;
在所述平面光波导膜层上采用电子束蒸镀沉积厚度为100~200纳米的二氧化硅形成所述光栅层;
在所述光栅层上采用指定工作波长的准分子激光通过相位掩模板,使激光经过相位掩模板后衍射到所述光栅层上形成干涉条纹形成周期为掩膜板周期一半的所述导模共振波导光栅。
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