[发明专利]激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法

权利要求书

1.一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构的制备方法，其特征在于，其包括:

提供三维模型图；

将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；

将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型图上每个点对应在平面上的坐标，三维模型图上每个点的高度对应高度区间里的高度值，根据所述映射关系，将映射关系与曝光剂量进行对应，基于所述曝光剂量进行光刻。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，提供三维模型图包括，三维模型图包括至少一个三维模型单元，对所述三维模型单元设定至少一个曲率值。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，提供三维模型图包括，三维模型图表面由复数个空间多边形拼接拟合，每个所述空间多边形都为凸多边形，每个所述空间多边形相互不重叠，每个所述空间多边形都有确定的顶点和边，根据所述空间多边形的顶点和所在平面的法向量，确定三维模型图在该多边形位置处的高度范围。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，各个高度区间具有相同的高度差，或者，各个高度区间具有不同的高度差。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系还包括，将所述三维模型上的每个高度区间对应灰度取值范围，获得映射关系中的每个点的高度值对应的灰度值，根据映射关系中的平面坐标和高度值，获得灰度图。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，每个高度区间的高度范围线性或曲线对应一个灰度取值范围。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述基于所述曝光剂量进行光刻包括：

根据所述灰度图取样出多套二值图；和

基于所述多套二值图进行叠加光刻，以在目标载体上形成多个台阶形斜坡形貌。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述根据所述灰度图取样出多套二值图包括：

根据台阶个数M，取样M-1套二值图；

将灰度值在范围1内的像素点赋值为黑或白，灰度值在其他范围的像素点赋值另一个，以得到第一套二值图；

将灰度值在范围2内的像素点赋值为黑或白，灰度值在其他范围的像素点赋值为白，以得到第二套二值图；

将灰度值在范围M-1内的像素点赋值为黑或白，灰度值在其他范围的像素点白，以得到第M-1套二值图；

其中M为大于等于2的整数；

其中范围2的区间至少部分覆盖范围1的区间，范围M-1的区间至少部分覆盖范围M-2的区间。

9.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述根据所述基于所述曝光剂量进行光刻包括：将灰度图分割成复数个单元图后进行光刻，在目标载体上形成预设的光滑斜坡形貌。