[发明专利]训管控制系统及方法有效

专利信息
申请号: 202110274293.2 申请日: 2021-03-15
公开(公告)号: CN112924481B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 毛晓燕;梁志超 申请(专利权)人: 北京君和信达科技有限公司
主分类号: G01N23/203 分类号: G01N23/203;G01N23/20008
代理公司: 北京展翼知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11452 代理人: 王明远
地址: 100088 北京市西*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 控制系统 方法
【说明书】:

公开了一种训管控制系统及方法。训管控制系统包括:调制装置,用于对辐射源发射的射线束进行调制,形成对检测区域进行飞点扫描的扫描射线束,其中,在调制过程中存在至少一个中间调制状态,使得中间调制状态下辐射源发射的射线束无法入射到检测区域,调制装置被配置为在对辐射源进行训管时,维持在中间调制状态。由此,调制装置在用于为对辐射源发射的射线束进行调制以形成用于飞点扫描的扫描射线束的基础上,通过额外提供用于使辐射源发射的射线束无法入射到检测区域的中间调制状态,使得在对辐射源进行训管时,通过直接控制调制装置维持在中间调制状态,即可达到训管要求,而无需设置额外的结构部件,从而可以节省成本。

技术领域

本公开涉及辐射成像领域,特别是涉及一种训管控制系统及方法。

背景技术

在利用背散射辐射成像装置对被检测物体进行辐射检查的过程中,背散射辐射成像装置的射线源发射的射线剂量率一般为高剂量率。按照射线源维护手册得知,射线源在一段时间内未开机,再次开机使用时,需从低剂量率到高剂量率逐步进行射线源的预热,以提高X光机的真空度,否则直接输出高剂量率的射线有可能造成X光机和相关电缆打火。其中,射线束的剂量率一般用射线束的功率表征。

将背散射辐射成像装置的射线源预热的过程,即为训管。按照辐射防护要求,训管时射线源发射的射线不能出射到扫描区。

因此,需要设计一种能够满足训管要求的训管控制方案。

发明内容

本公开要解决的一个技术问题是提供一种满足训管要求的训管控制方案。

根据本公开的第一个方面,提供了一种训管控制系统,包括:调制装置,用于对辐射源发射的射线束进行调制,形成对检测区域进行飞点扫描的扫描射线束,其中,在调制过程中存在至少一个中间调制状态,使得中间调制状态下辐射源发射的射线束无法入射到检测区域,调制装置被配置为在对辐射源进行训管时,维持在中间调制状态。

根据本公开的第二个方面,提供了一种辐射检查方法,包括:对辐射源发射的射线束进行调制,形成对检测区域进行飞点扫描的扫描射线束,其中,在调制过程中存在至少一个中间调制状态,使得辐射源发射的射线束在该中间调制状态下无法入射到检测区域;以及在对辐射源进行训管时,将当前调制状态维持在中间调制状态。

由此,调制装置在用于对辐射源发射的射线束进行调制以形成用于飞点扫描的扫描射线束的基础上,通过额外提供用于使辐射源发射的射线束无法入射到检测区域的中间调制状态,使得在对辐射源进行训管时,通过直接控制调制装置维持在中间调制状态,即可达到训管要求,而无需设置额外的结构部件(如快门机械装置及相应配套设施),从而可以节省成本。

附图说明

通过结合附图对本公开示例性实施方式进行更详细的描述,本公开的上述以及其它目的、特征和优势将变得更加明显,其中,在本公开示例性实施方式中,相同的参考标号通常代表相同部件。

图1示出了根据本公开一个实施例的训管控制系统的结构示意图。

图2示出了根据本公开另一个实施例的训管控制系统的结构示意图。

图3示出了根据本公开一个实施例的飞点产生示意图。

图4示出了根据本公开一个实施例的飞点装置的旋转过程示意图。

图5示出了根据本公开一个实施例的接近开关的安装示意图。

图6示出了根据本公开一个实施例的训管控制系统的结构示意图。

图7示出了根据本公开一个实施例的训管控制系统的工作流程示意图。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京君和信达科技有限公司,未经北京君和信达科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110274293.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top