[发明专利]一种快速获取镍电极陶瓷电容器晶粒度的方法在审

专利信息
申请号: 202110277641.1 申请日: 2021-03-15
公开(公告)号: CN113092200A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 焦强;芮二明;韩福禹;刘文宝;江理东 申请(专利权)人: 中国航天标准化研究所
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28;G01N1/32;G01N23/203
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 任林冲
地址: 100071*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 快速 获取 电极 陶瓷 电容器 晶粒 方法
【权利要求书】:

1.一种快速获取镍电极陶瓷电容器晶粒度的方法,其特征在于,镍电极陶瓷电容器包括陶瓷基体、镍电极和电极间的端头,包括如下步骤:

(1)采用切割机或粗磨方式,切割或研磨样品,使样品观察区域裸露在外;

(2)镶嵌:采用热镶嵌方式将样品进行固定,除样品观察区域外,均被具有导电性的热镶嵌料包裹;

(3)粗磨:采用粗磨砂纸,对样品观察区域进行研磨,在50倍显微镜下可观察到镍电极和电极间的端头;

(4)细磨:采用金刚石磨盘并添加金刚石抛光液,对粗磨后的样品观察区域进行细磨,在100倍显微镜下可清晰观察到样品观察区域表面划痕数不多于5条;

(5)粗抛:采用抛光布并添加金刚石抛光液,对细磨后的样品观察区域粗抛光,去除表面应力,在200倍显微镜下可清晰观察到样品观察区域表面划痕数不多于2条;

(6)精抛:采用抛光布和二氧化硅悬浊液,对粗抛后的样品观察区域进行精抛,在200倍显微镜下可清晰观察到样品观察区域表面无划痕;

(7)对表面无划痕的样品观察区域进行电子背散射衍射分析,获取陶瓷基体、镍电极材料晶粒度。

2.根据权利要求1所述的一种快速获取镍电极陶瓷电容器晶粒度的方法,其特征在于,所述步骤(3)的具体操作如下:

将磨抛机转速设置为200-250rad/min,压力设置为10-15N,使用300目砂纸对样品观察区域进行研磨;将磨抛机转速设置为200-250rad/min,压力设置为10-15N,使用800目砂纸对样品观察区域进行粗磨,时间为5min,取下样品清水清洗干净后,放置在50倍显微镜下,若可观察到镍电极和电极间的端头,则样品粗磨完毕,反之在800目砂纸重复操3min,直至在50倍显微镜下可观察到镍电极和电极间的端头为止。

3.根据权利要求1所述的一种快速获取镍电极陶瓷电容器晶粒度的方法,其特征在于,所述步骤(4)的具体操作如下:

对粗磨后的样品进行细磨,使用9μm金刚石磨盘并添加金刚石抛光液进行细磨,将磨抛机转速设置为150-200rad/min,压力设置为9-12N,时间为5-10min,完成后对样品进行清洗;之后使用3μm金刚石磨盘并添加金刚石抛光液进行细磨,将磨抛机转速设置为150-200rad/min,压力设置为9-12N,时间为3-5min,完成后对样品进行清洗;之后使用1μm金刚石磨盘并添加金刚石抛光液进行细磨,将磨抛机转速设置为150-200rad/min,压力设置为9-12N,,时间为3-5min,完成后对样品进行清洗;在100倍显微镜下可清晰观察到样品观察区域表面划痕数不多于5条,则细磨成功。

4.根据权利要求1所述的一种快速获取镍电极陶瓷电容器晶粒度的方法,其特征在于,所述步骤(5)的具体操作如下:

对细磨后的样品进行粗抛,使用9μm抛光布并添加9μm抛光液进行粗抛,将磨抛机转速设置为150-200rad/min,压力设置为8-10N,时间为5-10min,完成后对样品进行清洗;之后使用3μm抛光布并添加3μm抛光液进行粗抛,将磨抛机转速设置为150-200rad/min,压力设置为8-10N,时间为3-5min,完成后对样品进行清洗;之后使用1μm抛光布并添加1μm抛光液进行粗抛,将磨抛机转速设置为150-200rad/min,压力设置为8-10N,,时间为3-5min,完成后对样品进行清洗;在200倍显微镜下可清晰观察到样品观察区域表面划痕数不多于2条,则粗抛成功。

5.根据权利要求1所述的一种快速获取镍电极陶瓷电容器晶粒度的方法,其特征在于,所述步骤(6)的具体操作如下:

对粗抛后的样品进行精抛,使用50nm抛光布并添加50nm抛光液进行精抛,将磨抛机转速设置为150-200rad/min,压力设置为8-10N,时间为10-15min,完成后对样品进行清洗;将样品放置在金相显微200倍下观察,可清晰观察到样品表面无划痕,则精抛成功,反之则需在50nm抛光布上再进行精抛,直至在200倍显微镜下可清晰观察到样品表面无划痕为止。

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