[发明专利]一种低噪声放大器和射频前端电路在审
申请号: | 202110281815.1 | 申请日: | 2021-03-16 |
公开(公告)号: | CN113067552A | 公开(公告)日: | 2021-07-02 |
发明(设计)人: | 狄皓月;刘果果;元赛飞;袁婷婷;陈晓娟;魏珂;刘新宇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | H03F1/26 | 分类号: | H03F1/26;H03F1/56;H03F3/19 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 刘猛 |
地址: | 100029 北京市朝阳*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 低噪声放大器 射频 前端 电路 | ||
1.一种低噪声放大器,其特征在于,包括依次级联的输入匹配电路、第一级放大晶体管、第一级间匹配电路、第二级放大晶体管、第二级间匹配电路、第三级放大晶体管和输出匹配电路;
所述第一级放大晶体管、所述第二级放大晶体管和所述第三级放大晶体管均用于对其栅极输入的信号进行放大;
所述输入匹配电路与信号输入端相连,所述输入匹配电路用于实现所述信号输入端与所述第一级放大晶体管的栅极之间的阻抗匹配;所述第一级间匹配电路用于实现所述第一级放大晶体管的漏极与所述第二级放大晶体管的栅极之间的阻抗匹配;所述第二级间匹配电路用于实现所述第二级放大晶体管的漏极与所述第三级放大晶体管的栅极之间的阻抗匹配;所述输出匹配电路与信号输出端相连,所述输出匹配电路用于实现所述第三级放大晶体管的漏极与所述信号输出端之间的阻抗匹配;
其中,所述第一级间匹配电路的匹配频点为次高频点;所述第二级间匹配电路的匹配频点为高频点。
2.根据权利要求1所述的低噪声放大器,其特征在于,所述第一级放大晶体管、所述第二级放大晶体管和所述第三级放大晶体管均包括GaAs基PHEMT晶体管。
3.根据权利要求1所述的低噪声放大器,其特征在于,还包括源极负反馈电路,所述源极负反馈电路与所述第一级放大晶体管的源极相连;
所述源极负反馈电路包括第一微带线。
4.根据权利要求1或3所述的低噪声放大器,其特征在于,所述输入匹配电路包括第二微带线和第一隔直电容;
所述信号输入端与所述第一隔直电容的第一端相连,所述第一隔直电容的第二端与所述第一级放大晶体管的栅极相连;所述第二微带线的第一端与所述第一级放大晶体管的栅极相连,所述第二微带线的第二端与第一电压端相连。
5.根据权利要求4所述的低噪声放大器,其特征在于,所述第一级间匹配电路包括第三微带线、第四微带线、第二隔直电容、第五微带线、第六微带线、第七微带线和第八微带线;
所述第三微带线的第一端与所述第一级放大晶体管的漏极相连,所述第三微带线的第二端与所述第二隔直电容的第一端和所述第四微带线的第一端相连,所述第四微带线的第二端与第二电压端相连,所述第二隔直电容的第二端与所述第五微带线和所述第六微带线的第一端相连,所述第六微带线的第二端与所述第七微带线和所述第八微带线的第一端相连,所述第七微带线的第二端与第三电压端相连,所述第八微带线的第二端与所述第二级放大晶体管的栅极相连;
其中,所述第三微带线、所述第四微带线和所述第二隔直电容构成T型结构,所述第五微带线、所述第六微带线、所述第七微带线和所述第八微带线构成Π型结构,所述第一级间匹配电路构成T型级联Π型的匹配结构。
6.根据权利要求5所述的低噪声放大器,其特征在于,所述第二级间匹配电路包括第一电阻、第九微带线、第十微带线、第三隔直电容和第二电阻;
所述第一电阻的第一端与所述第二电压端相连,所述第一电阻的第二端与所述第九微带线的第一端相连,所述第九微带线的第二端与所述第二级放大晶体管的漏极相连;所述第三隔直电容的第一端与所述第二级放大晶体管的漏极相连,所述第三隔直电容的第二端与所述第三级放大晶体管的栅极和所述第十微带线的第一端相连,所述第十微带线的第二端与所述第二电阻的第一端相连,所述第二电阻的第二端与所述第三电压端相连;
其中,所述第九微带线、所述第三隔直电容和所述第十微带线构成LCL型匹配结构。
7.根据权利要求6所述的低噪声放大器,其特征在于,所述输出匹配电路包括第四隔直电容和第十一微带线;
所述第四隔直电容的第一端与所述第三级放大晶体管的漏极相连,所述第四隔直电容的第二端与所述信号输出端相连,所述第十一微带线的第一端与所述第三级放大晶体管的漏极相连,所述第十一微带线的第二端与所述第二电压端相连。
8.根据权利要求7所述的低噪声放大器,其特征在于,所述第一隔直电容、所述第二隔直电容、所述第三隔直电容和所述第四隔直电容的电容值范围为0.2pF-0.6pF。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110281815.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体器件及其制作方法
- 下一篇:一种儿科医疗科室用压缩雾化吸雾装置