[发明专利]一种氮化碳纳米立方体的制备方法有效
申请号: | 202110283241.1 | 申请日: | 2021-03-16 |
公开(公告)号: | CN112777577B | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
发明(设计)人: | 滕飞;郝唯一;刘喆;马奔 | 申请(专利权)人: | 南京信息工程大学 |
主分类号: | C01B21/082 | 分类号: | C01B21/082 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 冒艳 |
地址: | 210044 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氮化 纳米 立方体 制备 方法 | ||
本发明公开了一种氮化碳纳米立方体的制备方法。该方法包括如下步骤:(1)将三聚氰胺和三聚氰酸加入水中,室温搅拌,离心分离沉淀,烘干,烘干产物为三聚氰胺‑三聚氰酸超分子;(2)将三聚氰胺‑三聚氰酸超分子和氯化钾研磨均匀,煅烧,洗涤去除多余的氯化钾,烘干,即可。本发明氮化碳纳米立方体的制作方法简易,模板易去除,成本低廉,且具有均匀的纳米立方体结构。
技术领域
本发明涉及纳米材料制备方法,特别涉及一种氮化碳纳米立方体的制备方法。
背景技术
近年来,不含金属的氮化碳(g-C3N4)半导体材料引起了广泛的关注,其制备方法简单,制备成本低,可通过直接煅烧尿素,单氰胺,双氰胺,三聚氰胺等含氮有机物制得。g-C3N4热稳定性、化学稳定性高,无毒。然而,g-C3N4的性能受形貌控制,通过常规的热解法制备的块状g-C3N4比表面积低,孔隙率低,导致性能受限。已报道的不同形貌g-C3N4相关专利中,有江林等人发明的一种薄层g-C3N4的制备方法技术(CN108654668A)、杨萍和刘志国发明的一种g-C3N4管中管的制备方法(CN108383091A)等,这些方法制备步骤繁琐,且存在模板不易去除的问题,其形貌与本文中的g-C3N4明显不同。因此寻求g-C3N4新颖形貌的合成方法成为研究的重点。本发明首次报道了均匀立方体状氮化碳的简单合成,文献尚无此报道。
发明内容
发明目的:本发明目的是提供具有均匀形貌结构的氮化碳纳米立方体。
技术方案:本发明提供一种氮化碳纳米立方体的制备方法,包括如下步骤:
(1)将三聚氰胺和三聚氰酸加入水中,室温搅拌,离心分离沉淀,烘干,烘干产物为三聚氰胺-三聚氰酸超分子;
(2)将三聚氰胺-三聚氰酸超分子和氯化钾研磨均匀,煅烧,洗涤去除多余的氯化钾,烘干,即可。
进一步地,所述煅烧是在管式炉中550℃煅烧4h。
进一步地,所述煅烧时的升温速度5℃/min。
进一步地,所述步骤(2)烘干后得到的氮化碳纳米立方体结构均匀。
进一步地,所述步骤(2)的产品棱长为400nm。
有益效果:本发明氮化碳纳米立方体的制作方法简易,模板易去除,成本低廉,且具有均匀的纳米立方体结构,形貌好。
附图说明
图1为实施例一制备的的g-C3N4纳米立方体的扫描电子显微镜图,由图1可见,实施例一制备的g-C3N4纳米立方体,所述立方体g-C3N4的规格大小为:棱长约400nm的立方体;
图2为实施例一制备的的g-C3N4纳米立方体的X射线衍射图,由图2可见,实施例一制备的样品在13.0°和27.4°的特征峰对对应g-C3N4的(100)和(002)面。
具体实施方式
实施例1
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