[发明专利]负离子生成装置

说明书

本发明提供一种负离子生成装置，能够抑制对于对象物的损伤。负离子生成装置(1)在负离子生成部(4)与对象物配置部(3)之间设置有抑制对于对象物配置部(3)的紫外光(UV)的紫外光抑制机构(60)。在负离子生成部(4)为了生成负离子而生成等离子体(P)的情况下，包含紫外光(UV)的等离子体光朝向配置于对象物配置部(3)的基板(11)的方向。此时，通过紫外光抑制机构(60)抑制对于基板(11)的紫外光(UV)，能够减少或阻断照射到基板(11)上的紫外光(UV)。

技术领域

本申请主张基于2020年3月19日申请的日本专利申请第2020-049133号的优先权。该日本申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。

本发明涉及一种负离子生成装置。

背景技术

以往，作为负离子生成装置，已知有专利文献1中记载的负离子生成装置。该负离子生成装置具备：气体供给部，向腔室内供给成为负离子的原料的气体；以及负离子生成部，在腔室内通过生成等离子体来生成负离子。负离子生成部通过等离子体在腔室内生成负离子，由此将该负离子照射到对象物。

专利文献1：日本特开2017-025407号公报

在此，在如上所述的负离子生成装置中，在由负离子生成部生成等离子体时，等离子体光包含紫外光。此时，紫外光照射到负离子照射的对象物，由此有可能对该对象物造成损伤。

发明内容

因此，本发明的目的在于，提供一种能够抑制对于对象物的损伤的负离子生成装置。

为了解决上述课题，本发明所涉及的负离子生成装置为，生成负离子并照射到对象物，其具备：腔室，在内部进行负离子的生成；负离子生成部，通过在腔室内生成等离子体来生成负离子；对象物配置部，配置对象物；以及紫外光抑制机构，在负离子生成部与对象物配置部之间，抑制对于对象物配置部的紫外光。

本发明所涉及的负离子生成装置为，在负离子生成部与对象物配置部之间具备抑制对于对象物配置部的紫外光的紫外光抑制机构。在负离子生成部为了生成负离子而生成等离子体的情况下，包含紫外光的等离子体光朝向配置于对象物配置部的对象物的方向。此时，紫外光抑制机构抑制对于对象物的紫外光，由此能够减少或阻断照射到对象物的紫外光。通过上述，能够抑制对于对象物的损伤。

紫外光抑制机构可以具有在腔室内配置于离子生成部与对象物配置部之间的、抑制紫外光的穿过的部件。此时，即使不变更腔室整体的形状，仅通过对现有的腔室追加部件，就能够抑制对于对象物的紫外光。

部件可以抑制紫外光的穿过且允许负离子的穿过。此时，即使不设置使部件移动的机构等，也能够抑制对于对象物的紫外光。

紫外光抑制机构可以具有切换部，该切换部在由负离子生成部生成等离子体的时刻和停止等离子体的时刻切换部件的位置。此时，在正在生成等离子体的时刻，切换部将部件配置于负离子生成部与对象物之间，能够阻断对于对象物的紫外光。另一方面，在等离子体停止的时刻，切换部移除部件，由此能够将由负离子生成部生成的负离子照射到对象物。

紫外光抑制机构可以由在负离子生成部与对象物配置部之间利用壁部阻断紫外光的腔室构成。此时，无需追加另外的部件就能够抑制对于对象物的紫外光。

发明的效果

根据本发明，能够提供一种能够抑制对于对象物的损伤的负离子生成装置。

附图说明

图1是表示本实施方式所涉及的负离子生成装置的结构的概略剖视图。

图2是表示等离子体P的开启/关闭的时刻和正离子及负离子向对象物的飞来状况的曲线图。

图3是表示开口率调整部件的例子的概略图。

图4是表示变形例所涉及的负离子生成装置的结构的概略剖视图。