[发明专利]卷对卷等离子处理系统在审
申请号: | 202110287662.1 | 申请日: | 2021-03-17 |
公开(公告)号: | CN112908825A | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
发明(设计)人: | 谭健 | 申请(专利权)人: | 深圳市神州天柱科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H05K3/00;H05K3/26 |
代理公司: | 深圳壹舟知识产权代理事务所(普通合伙) 44331 | 代理人: | 寇闯 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 处理 系统 | ||
1.一种卷对卷等离子处理系统,其特征在于,包括机体、放料和收料腔、等等离子清洗腔、铜管嵌入式极板,其中,所述放料和收料腔和所述等等离子清洗腔位于所述机体内部,所述铜管嵌入式极板位于所述等等离子清洗腔内。
2.如权利要求1所述的卷对卷等离子处理系统,其特征在于,所述放料和收料腔包括放料仓和收料仓,所述放料仓和所述收料仓位于同一腔体内。
3.如权利要求1所述的卷对卷等离子处理系统,其特征在于,所述放料仓位于所述收料仓下方,所述放料仓与所述收料仓之间通过隔板隔开。
4.如权利要求3所述的卷对卷等离子处理系统,其特征在于,所述隔板上方安装有滑轨,所述收料仓与所述滑轨滑动连接。
5.如权利要求1所述的卷对卷等离子处理系统,其特征在于,所述铜管嵌入式极板包括极板和铜管,所述极板上开有由不少于一个阵列单元组成的贯通孔阵列。
6.如权利要求5所述的卷对卷等离子处理系统,其特征在于,所述贯通孔阵列的阵列单元包括一个贯通圆孔和四个细长圆孔。
7.如权利要求5所述的卷对卷等离子处理系统,其特征在于,所述铜管呈S型排布于极板一侧。
8.如权利要求1所述的卷对卷等离子处理系统,其特征在于,所述铜管嵌入式极板数目不少于一个,所述铜管嵌入式极板平行排布于等等离子清洗腔内。
9.如权利要求1-8任一项所述的一种卷对卷等离子处理系统,还包括触摸屏、报警灯和活页门。
10.一种柔性线路板等离子处理方法:
S1设置线路板:将铜箔设置于放料机构中,透过隔板下方的长条孔穿过所述铜箔,依次绕过支撑轴,再从所述隔板上方的长条孔穿入收料仓及所述收料仓中的收料机构中;
S2等离子清洗:等离子清洗腔抽真空至20-30Pa,充入工业气体,开始电离,电离出的离子透过铜管嵌入式极板的贯通孔打在待处理的所述铜箔表面,将所述铜箔表面的杂质去除,同时铜管开始走水,带走电离时产生的热量。
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