[发明专利]测量外延前后光刻套刻误差的方法及结构

权利要求书

1.一种测量外延前后光刻套刻误差的方法，其特征在于，包括：

在第一基底表面上进行刻蚀，形成游标主尺刻度原始标记；

在第一基底表面上进行外延，形成第二基底表面，根据游标主尺刻度原始标记的现有形貌设置游标主尺刻度标记、以及设置游标主尺刻度标记的原点；

在第二基底表面上进行光刻，形成游标尺刻度标记；

检测游标主尺刻度标记与游标尺刻度标记的实际对准点，根据实际对准点和游标尺精度计算光刻套刻误差；

形成游标主尺刻度标记、以及形成游标主尺刻度标记的原点的步骤包括：

在第一基底表面上进行刻蚀，形成多个第一窄标记，将第一窄标记中某两条相邻的刻度线设置为原始刻度；

在进行外延步骤后，使得第一窄标记发生膨胀形成宽标记，使得所述宽标记两两相邻的刻度线之间均具有一条分界线，设置各个所述分界线作为游标主尺刻度标记；

设置原始刻度之间的分界线作为游标主尺刻度标记的原点。

2.如权利要求1所述的测量外延前后光刻套刻误差的方法，其特征在于，形成游标尺刻度标记包括：

在第二基底表面上进行光刻，形成多个第二窄标记，设置第二窄标记为游标尺刻度标记。

3.如权利要求1所述的测量外延前后光刻套刻误差的方法，其特征在于，检测游标主尺刻度标记与游标尺刻度标记的实际对准点包括：

使得游标主尺刻度标记与游标尺刻度标记组成游标尺结构；

确认游标尺刻度标记和游标主尺刻度标记之间对齐的刻度线的位置；

读取对齐的刻度线的位置至所述游标主尺刻度标记的原点之间具有的刻度数量。

4.如权利要求3所述的测量外延前后光刻套刻误差的方法，其特征在于，根据实际对准点和游标尺精度计算光刻套刻误差包括：

所述刻度数量减1后与游标尺精度的乘积为光刻套刻误差；实际对准点相对游标主尺刻度标记的原点的位置表示光刻套刻误差的方向。

5.如权利要求2中所述的测量外延前后光刻套刻误差的方法，其特征在于，所述游标尺精度等于第一窄标记两条相邻刻度线中心线的间距减去第二窄标记两条相邻刻度线中心线的间距；根据需要设计游标尺精度。

6.一种测量外延前后光刻套刻误差的结构，其特征在于，包括：

第一基底层，被配置为具有游标主尺刻度标记、以及游标主尺刻度标记的原点；

第二基底层，被配置为具有游标尺刻度标记；

其中在第一基底表面上进行刻蚀，形成多个第一窄标记，将第一窄标记中某两条相邻的刻度线设置为原始刻度；

在进行外延步骤后，使得第一窄标记发生膨胀形成宽标记，使得所述宽标记两两相邻的刻度线之间均具有一条分界线，设置各个所述分界线作为游标主尺刻度标记；

设置原始刻度之间的分界线作为游标主尺刻度标记的原点。