[发明专利]一种图像处理方法、装置、电子设备及存储介质在审

专利信息
申请号: 202110291538.2 申请日: 2021-03-18
公开(公告)号: CN113096231A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 何立伟 申请(专利权)人: 北京达佳互联信息技术有限公司
主分类号: G06T15/50 分类号: G06T15/50;G06T5/30;G06T5/00
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100085 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 图像 处理 方法 装置 电子设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种图像处理方法,其特征在于,包括:

获取待处理人体图像;

识别所述待处理人体图像,以确定所述待处理人体图像中的人脸关键点的位置和第一待处理区域图像,所述第一待处理区域图像包括目标对象的人体轮廓区域图像和/或所述目标对象的背景区域图像,所述背景区域图像为所述待处理人体图像中除所述目标对象的人体部位以外的区域图像;

将所述人脸关键点的位置确定为所述待处理人体图像中接收投射光线的终点位置;

根据所述终点位置和目标位置,确定所述第一待处理区域图像的光强分布,所述目标位置为所述第一待处理区域图像中光照强度最大的像素点的位置,所述第一待处理区域图像的光强分布用于表征所述第一待处理区域图像内每一个像素点的光照强度;

混合所述待处理人体图像和所述第一待处理区域图像的光强分布,以得到第一光照图像。

2.根据权利要求1所述的图像处理方法,其特征在于,所述方法还包括:

识别所述待处理人体图像,确定第二待处理区域图像,所述第二待处理区域图像为所述目标对象的人脸区域图像;

为所述人脸区域图像内的每一个像素点添加预设的光照强度,得到所述人脸区域图像的光强分布;

叠加所述第一待处理区域图像的光强分布和所述人脸区域图像的光强分布,以得到综合光强分布;

混合所述待处理人体图像和所述综合光强分布,以得到第二光照图像。

3.根据权利要求1所述的图像处理方法,其特征在于,所述根据所述终点位置和目标位置,确定所述第一待处理区域图像的光强分布,包括:

根据所述终点位置、所述目标位置以及第一像素点的位置,确定所述第一像素点的光照强度的方向系数,所述第一像素点为所述第一待处理区域图像中的任一像素点;

根据所述终点位置和所述第一像素点的位置,确定所述人脸关键点与所述第一像素点之间的相对距离;

根据所述方向系数、所述相对距离、所述第一像素点的像素值以及预设的光效距离系数,确定所述第一像素点的光照强度,所述光效距离系数用于表征所述相对距离对所述第一像素点的光照强度的影响程度。

4.根据权利要求3所述的图像处理方法,其特征在于,所述根据所述终点位置、所述目标位置以及第一像素点的位置,确定所述第一像素点的光照强度的方向系数,包括:

确定所述方向系数满足下述公式:

其中,Rdir表示所述方向系数,(Δx,Δy)表示所述人脸关键点到所述第一像素点的向量,(Δx',Δy')表示所述人脸关键点到所述第一待处理区域图像中光照强度最大的像素点的向量,|(Δx',Δy')|表示所述人脸关键点与所述光照强度最大的像素点之间的距离。

5.根据权利要求3或4所述的图像处理方法,其特征在于,所述根据所述方向系数、所述相对距离、所述第一像素点的像素值以及预设的光效距离系数,确定所述第一像素点的光照强度,包括:

确定所述第一像素点的光照强度满足下述公式:

其中,Intensity表示所述第一像素点的光照强度,Rdir表示所述第一像素点的光照强度的方向系数,Value表示所述第一像素点的像素值,dis表示所述人脸关键点与所述第一像素点之间的相对距离,k1表示第一光效距离系数,k2表示第二光效距离系数,k3表示第三光效距离系数,k1>0,k2>0,k3>0,所述预设的光效距离系数包括所述第一光效距离系数、所述第二光效距离系数以及所述第三光效距离系数。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京达佳互联信息技术有限公司,未经北京达佳互联信息技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110291538.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top