[发明专利]缺陷检测方法、装置、电子设备及可读存储介质

权利要求书

1.一种缺陷检测方法，其特征在于，包括：

获取待检测目标的待检测图像和标准图像，提取所述待检测图像的待检测特征，并提取所述标准图像的标准特征；

将所述待检测特征与所述标准特征融合，得到第一融合特征；

确定所述第一融合特征中的感兴趣区域特征；所述感兴趣区域特征用于表示所述待检测图像和所述标准图像之间的对比信息的局部特征，所述感兴趣区域是从所述第一融合特征中圈定的一个可能包括针对待检测目标的缺陷信息的一个区域；

将所述感兴趣区域特征和所述第一融合特征进行融合，得到第二融合特征；

对所述第二融合特征进行目标检测得到针对所述待检测目标的缺陷信息；

其中，所述将所述感兴趣区域特征和所述第一融合特征进行融合，得到第二融合特征，包括：

将所述第一融合特征进行维度转换得到转换特征；所述转换特征与所述感兴趣区域特征的维度相同；

对所述转换特征进行池化，得到池化特征；所述池化特征的尺度与所述感兴趣区域特征的尺度相同；

基于所述池化特征和所述感兴趣区域特征确定所述第二融合特征。

2.根据权利要求1所述的缺陷检测方法，其特征在于，所述将所述待检测特征与所述标准特征融合，得到第一融合特征，包括：

将每一通道对应的待检测特征分别与每一通道对应的标准特征均进行融合，得到所述第一融合特征。

3.根据权利要求2所述的缺陷检测方法，其特征在于，所述将每一通道对应的待检测特征分别与每一通道对应的标准特征均进行融合，得到所述第一融合特征，包括：

基于融合网络确定每一通道对应的待检测特征的第一权值，并确定每一通道对应的标准特征的第二权值；

基于各个通道分别对应的第一权值和第二权值，确定各个通道分别对应的待检测特征与标准特征的加权和，得到所述第一融合特征。

4.根据权利要求1所述的缺陷检测方法，其特征在于，所述确定所述第一融合特征中的感兴趣区域特征，包括：

提取所述第一融合特征中的至少一个候选区域；

对所述至少一个候选区域进行区域特征聚集得到所述感兴趣区域特征。

5.根据权利要求4所述的缺陷检测方法，其特征在于，所述对所述至少一个候选区域进行区域特征聚集得到所述感兴趣区域特征，包括：

遍历所述至少一个候选区域，将每一候选区域分割为至少一个单元；

通过双线性内插确定每一单元的坐标位置并进行最大池化操作，得到所述感兴趣区域特征。

6.根据权利要求1所述的缺陷检测方法，其特征在于，所述对所述转换特征进行池化，得到池化特征，包括：

基于预设的特征块和特征图，对所述转换特征进行积分式池化，得到所述池化特征。

7.根据权利要求1所述的缺陷检测方法，其特征在于，所述缺陷信息包括缺陷位置和缺陷类别；所述对所述第二融合特征进行目标检测得到针对所述待检测目标的缺陷信息，包括：

通过卷积层预测多点集合的方式对所述第二融合特征进行稠密局部回归，得到针对所述待检测目标的缺陷位置和缺陷类别。