[发明专利]一种磷污染物的去除方法及装置在审
申请号: | 202110295692.7 | 申请日: | 2021-03-19 |
公开(公告)号: | CN113066711A | 公开(公告)日: | 2021-07-02 |
发明(设计)人: | 沈保家;吴保润;刘小辉;张超 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/67 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 姚璐华 |
地址: | 430074 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 污染物 去除 方法 装置 | ||
1.一种磷污染物的去除方法,其特征在于,所述方法包括:
向反应腔室中通入预设气体,与所述反应腔室中氧化机台上的磷污染物进行反应,使固态的所述磷污染物变为气态;
对所述反应腔室内的气体进行气体抽离。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述预设气体为氢气和氧气的混合气体;
所述向反应腔室中通入预设气体,与所述反应腔室中氧化机台上的磷污染物进行反应,使固态的所述磷污染物变为气态,包括:
向所述反应腔室中通入所述氢气和氧气的混合气体;
对所述混合气体进行等离子体处理,以生成氧离子气体;所述氧离子气体用于与所述磷污染物在预设条件下进行化学反应,以使固态的所述磷污染物变为气态。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述预设条件至少包括腔室内的温度;
所述腔室内的温度为600℃-1100℃。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述预设条件至少包括腔室内的压力;
所述腔室内的压力为1Torr-8Toor。
5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述氧离子气体的气体流量为2slm-8slm。
6.根据权利要求1至5任一项所述的方法,其特征在于,在向反应腔室中通入预设气体,与所述反应腔室中氧化机台上的磷污染物进行反应,使固态的所述磷污染物变为气态这一步骤之前,所述方法还包括:
提供一磷掺杂的待加工基片;
将所述待加工基片固定在所述氧化机台上;
对所述待加工基片进行氧化处理;其中,在所述氧化处理过程中,所述待加工基片中的磷被散发,进而附着在所述氧化机台上,形成所述磷污染物。
7.一种磷污染物的去除装置,其特征在于,所述装置包括:
气体处理组件,用于向反应腔室中通入预设气体,与所述反应腔室中氧化机台上的磷污染物进行反应,使固态的所述磷污染物变为气态;
气体抽离组件,用于对所述反应腔室内的气体进行气体抽离。
8.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述预设气体为氢气和氧气的混合气体;
所述气体处理组件具体用于:
向所述反应腔室中通入所述氢气和氧气的混合气体;
对所述混合气体进行等离子体处理,以生成氧离子气体;所述氧离子气体用于与所述磷污染物在预设条件下进行化学反应,以使固态的所述磷污染物变为气态。
9.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,所述预设条件至少包括腔室内的温度;
所述腔室内的温度为600℃-1100℃;
所述装置还包括:温度调节组件;
所述温度调节组件用于调节所述腔室内的温度。
10.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,所述预设条件至少包括腔室内的压力;
所述腔室内的压力为1Torr-8Toor;
所述装置还包括:压力调节组件;
所述压力调节组件用于调节所述腔室内的压力。
11.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,所述氧离子气体的气体流量为2slm-8slm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长江存储科技有限责任公司,未经长江存储科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110295692.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。